简而言之，真空室内的压力始终低于其外部的大气压力。 这不是一个单一的固定值，而是一个受控的范围。“真空”仅指任何气体压力低于周围大气的体积，海平面的大气压力约为 760 托（Torr）或 760 毫米汞柱（mmHg）。
关键在于停止将真空视为“空的空间”，而应将其视为受控的低压环境。具体的压力完全取决于应用的具体要求，范围可以是从略低于大气压到接近深空中的粒子完全缺失。
真空中的压力概念
要理解真空室内的压力，您必须首先确定一个基准：我们周围的空气。这个压力是所有真空产生的起点。
大气压力：“零”点
海平面的标准大气压力是我们上方空气柱的重量。这是您的真空泵必须对抗的压力。
这个基准定义为 1 个大气压（atm），它大约等于：
- 760 托（Torr）
- 760 毫米汞柱（mmHg）
- 101,325 帕斯卡（Pa）
测量压力的缺失
真空是从密封腔中去除空气分子的过程。因此，内部压力是根据从大气压力（760 托）到绝对零压力（0 托）的标尺来测量的。
读数越低，表示气体分子越少，因此真空度越高或“越硬”。
不同级别的真空
“真空”不是一个单一的状态。它根据腔室内的残余压力被划分为不同的等级。
- 粗真空/低真空： 1 到 760 托
- 中真空： 10⁻³ 到 1 托
- 高真空 (HV)： 10⁻⁹ 到 10⁻³ 托
- 超高真空 (UHV)： 低于 10⁻⁹ 托
每个级别都需要更先进、更昂贵的设备来实现和维持。
理解实际的权衡
达到正确的真空水平是一种平衡行为。追求比必需的更低的压力是一种常见且代价高昂的错误。
更低压力的成本
达到高真空或超高真空比产生粗真空要困难得多。它需要先进的多级泵、专业的腔室材料以及更长的“抽空”时间。
当您试图去除最后残留的气体分子时，能源、时间和设备成本会急剧增加。
为什么“完美真空”是不可能的
完美真空，即绝对零压力（0 托），是一个理论上的理想状态，而不是物理现实。
即使在最先进的系统中，附着在腔室壁上的气体分子也会以称为释气（outgassing）的过程缓慢释放。腔室材料本身也可能升华或蒸发，贡献微量的压力。
将真空与任务相匹配
目标不是实现尽可能高的真空度，而是实现适用于该应用的真空度。对只需要粗真空的过程使用 UHV 系统，就像用手术刀来割绳子一样——效率低下且浪费。
为您的目标做出正确的选择
真空室所需的压力完全取决于您的目标。
- 如果您的主要重点是机械加工或简单的脱水： 粗真空通常足以提供吸力或降低水的沸点。
- 如果您的主要重点是防止氧化等化学反应： 中真空或高真空对于薄膜沉积、真空钎焊或敏感金属热处理等工艺是必需的。
- 如果您的主要重点是表面科学或粒子物理学： 超高真空 (UHV) 是必不可少的，以确保粒子能够在不与空气分子碰撞的情况下长距离传播。
最终，真空室中的压力是一个精确设计的变量，根据特定的科学或工业成果进行定制。
摘要表：
| 真空等级 | 压力范围 (托) | 常见应用 |
|---|---|---|
| 粗真空/低真空 | 1 到 760 | 脱水，机械吸力 |
| 中真空 | 10⁻³ 到 1 | 薄膜沉积，钎焊 |
| 高真空 (HV) | 10⁻⁹ 到 10⁻³ | 敏感金属热处理 |
| 超高真空 (UHV) | 低于 10⁻⁹ | 表面科学，粒子物理学 |
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