沉积室需要高真空，主要是为了确保沉积薄膜的纯度和质量。实现这一目标的方法是尽量减小气体压力，以增加气化原子的平均自由路径，降低污染水平，并加强对气体和气相成分的控制。
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增加平均自由路径:在高真空环境中，气体压力大大降低，从而增加了气化原子的平均自由路径。这意味着这些原子在不与其他气体分子发生碰撞的情况下，可以移动更长的距离。这一点至关重要，因为它可以防止蒸气中的烟尘成核，并确保原子在到达基底时不会发生散射，从而实现更均匀、更高质量的沉积。
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降低污染水平:高真空条件大大减少了腔室中的本底气体，而本底气体是潜在的污染源。这对于有机发光器件和有机光伏器件等对氧气和湿气敏感的应用尤为重要，因为在这些应用中，即使是微量的氧气和湿气也会淬灭活性功能物种。通过将真空度保持在 10^-6 到 10^-9 托的范围内，蒸发薄膜的纯度得到了显著提高。
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加强对气相和气相成分的控制:高真空环境允许技术人员精确控制气相和气相的组成。这种控制对于制作特殊薄膜（如光学镀膜中使用的薄膜）至关重要，因为在这种情况下，薄膜的化学成分必须精确。
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清洁表面，提高附着力:高真空还能确保腔室内的表面清洁。这种清洁度至关重要，因为它能使蒸发原子更好地附着在基底上，形成稳定、均匀的薄膜层。如果没有高真空，蒸发原子可能无法很好地附着，从而导致不稳定或不均匀的沉积。
总之，沉积室中的高真空对于获得高质量、纯净和均匀的薄膜至关重要。它有助于延长蒸发原子的平均自由路径，减少污染，实现对沉积环境的精确控制，并确保表面清洁以提高薄膜附着力。
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