PECVD(等离子体增强化学气相沉积)机是半导体行业用于在基底上沉积薄膜的工具。该机器利用低温等离子体产生辉光放电来预热样品,并引入适量的工艺气体。该过程涉及化学和等离子反应,在样品表面形成一层固体薄膜。PECVD 设备主要由真空和压力控制系统、沉淀系统、气体和流量控制、计算机控制和安全保护系统组成。该设备用于在大气保护环境中通过 CVD 法对粉末材料进行连续镀膜和改性。
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