说到薄膜沉积，溅射和蒸发之间的争论往往围绕着纯度。
与蒸发相比，溅射通常被认为具有更高的纯度。
然而，由于溅射的操作条件，它也更容易引入杂质。
比较溅射和蒸发时需要考虑的 4 个关键因素
1.溅射中的高能粒子
溅射使用辉光放电产生的高能粒子。
这些粒子能更有效地去除目标材料中的杂质。
该工艺是用离子轰击目标材料，将目标材料中的原子喷射出来，在基底上形成薄膜。
轰击粒子的高能量有助于提高沉积薄膜的纯度。
2.溅射的真空范围较小
尽管溅射具有能量和纯度方面的优势，但与蒸发相比，溅射的真空范围较小。
真空条件的差异会导致更容易将杂质带入基底。
真空度在 PVD 过程中至关重要，因为它直接影响沉积环境的纯度。
3.与蒸发的比较
蒸发依靠源材料的热能汽化并沉积到基底上。
蒸发所涉及的能级较低，通常会导致较少的高速原子。
这降低了损坏基底的可能性，但也可能限制其像溅射一样有效去除杂质的能力。
4.总体考虑
虽然溅射能提供更好的阶跃覆盖率和潜在的更高纯度，但所涉及的特定条件和材料会影响纯度结果。
例如，离子轰击容易降解的材料或需要极高真空条件的材料可能在蒸发过程中表现更好。
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总之，虽然溅射通常能提供更高纯度的沉积，但实际达到的纯度会受到各种因素的影响，包括真空条件、沉积材料的类型以及应用的具体要求。
在选择溅射还是蒸发时，应仔细考虑这些因素和薄膜应用的具体需求。
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