薄膜沉积部件
电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚
货号 : KMS04
价格根据 规格和定制情况变动
- 材料
- 钼/钨
- 规格
- 30-50 毫米*15-25 毫米
运输:
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应用
电子束蒸发(EBE)是一种用于薄膜沉积的物理气相沉积(PVD)技术。在电子束蒸发过程中,一束高能电子被用来加热和汽化固体材料,然后使其凝结在基底上形成薄膜。由于钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,因此常用于电子束蒸发工艺中。钨/钼坩埚常用于微电子生产中的薄膜沉积,如集成电路 (IC) 和微处理器;光学镀膜工艺,用于在透镜、反射镜或其他光学元件上沉积薄膜;抗反射涂层或导电层的薄膜沉积;耐磨涂层:钨坩埚可用于在切削工具或发动机部件等各种部件上沉积耐磨涂层。
细节与零件
技术规格
外径和高度 | 30*15 毫米 | 34*20 毫米 | 35*17mm | 40*17 毫米 | 42*19 毫米 | 45*22 毫米 | 50 毫米*22 毫米 |
我们展示的坩埚有不同尺寸,也可根据要求定制尺寸。
优点
- 熔点极高;适合加工高熔点材料。高导热性,可在蒸发过程中有效传热。
- 高纯度;使用钨坩埚有助于确保沉积薄膜的纯度。
- 机械强度高;钨以其出色的机械强度和高温抗变形能力而著称。
- 蒸气压低;钨的蒸气压低,有助于最大限度地减少污染,并在蒸发过程中保持清洁的真空环境。
FAQ
什么是钨舟?
使用钨舟有哪些优势?
什么是热蒸发源?
什么是物理气相沉积(PVD)?
热蒸发源的主要类型有哪些?
什么是磁控溅射?
用于沉积薄膜的方法有哪些?
什么是溅射靶材?
热蒸发源是如何工作的?
为什么选择磁控溅射?
什么是薄膜沉积设备?
如何制造溅射靶材?
蒸发坩埚常用的材料有哪些?
使用热蒸发源有哪些优势?
使用蒸发舟有哪些优势?
用于薄膜沉积的材料有哪些?
薄膜沉积通常使用金属、氧化物和化合物作为材料,每种材料都有其独特的优缺点。金属因其耐用性和易于沉积而受到青睐,但价格相对昂贵。氧化物非常耐用,可耐高温,并可在低温下沉积,但可能比较脆,难以操作。化合物具有强度和耐久性,可在低温下沉积,并可定制以显示特定性能。
薄膜涂层材料的选择取决于应用要求。金属是热传导和电传导的理想材料,而氧化物则能有效提供保护。可根据具体需求定制化合物。最终,特定项目的最佳材料将取决于应用的具体需求。
什么是薄膜沉积技术?
溅射靶材有哪些用途?
使用蒸发坩埚有哪些优势?
热蒸发源有哪些应用?
蒸发舟的典型使用寿命是多久?
实现最佳薄膜沉积的方法有哪些?
要获得具有理想特性的薄膜,高质量的溅射靶材和蒸发材料至关重要。
溅射靶材或蒸发材料的纯度起着至关重要的作用,因为杂质会导致生成的薄膜出现缺陷。晶粒大小也会影响薄膜的质量,晶粒越大,薄膜的性能越差。
要获得最高质量的溅射靶材和蒸发材料,选择纯度高、晶粒度小、表面光滑的材料至关重要。
薄膜沉积的用途
氧化锌薄膜
氧化锌薄膜可应用于热学、光学、磁学和电气等多个行业,但其主要用途是涂层和半导体器件。
磁性薄膜
磁性薄膜是电子、数据存储、射频识别、微波设备、显示器、电路板和光电子技术的关键元件。
光学薄膜
光学镀膜和光电子技术是光学薄膜的标准应用。分子束外延可以生产光电薄膜设备(半导体),外延薄膜是一个原子一个原子地沉积到基底上的。
聚合物薄膜
聚合物薄膜可用于存储芯片、太阳能电池和电子设备。化学沉积技术(CVD)可精确控制聚合物薄膜涂层,包括一致性和涂层厚度。
薄膜电池
薄膜电池为植入式医疗设备等电子设备提供动力,由于薄膜的使用,锂离子电池的发展突飞猛进。
薄膜涂层
薄膜涂层可增强各行业和技术领域目标材料的化学和机械特性。
薄膜太阳能电池
薄膜太阳能电池对于太阳能产业至关重要,它可以生产相对廉价的清洁电力。光伏系统和热能是两种主要的适用技术。
使用薄膜沉积设备有哪些优势?
什么是电子溅射靶材?
应如何处理和维护蒸发坩埚?
蒸发舟可以重复使用吗?
影响薄膜沉积的因素和参数
沉积速率:
薄膜的生成速率(通常以厚度除以时间来衡量)对于选择适合应用的技术至关重要。对于薄膜而言,适度的沉积速率就足够了,而对于厚膜而言,快速沉积速率则是必要的。在速度和精确薄膜厚度控制之间取得平衡非常重要。
均匀性:
薄膜在基底上的一致性称为均匀性,通常指薄膜厚度,但也可能与折射率等其他属性有关。
填充能力:
填充能力或台阶覆盖率是指沉积工艺对基底形貌的覆盖程度。所使用的沉积方法(如 CVD、PVD、IBD 或 ALD)对台阶覆盖率和填充有重大影响。
薄膜特性:
薄膜的特性取决于应用要求,可分为光子、光学、电子、机械或化学要求。大多数薄膜必须满足一个以上类别的要求。
制程温度:
薄膜特性受制程温度的影响很大,这可能受到应用的限制。
损坏:
每种沉积技术都有可能损坏沉积在其上的材料,而较小的特征更容易受到制程损坏。污染、紫外线辐射和离子轰击都是潜在的损坏源。了解材料和工具的局限性至关重要。
选择薄膜沉积设备时应考虑哪些因素?
溅射靶材的使用寿命有多长?
如何选择合适的蒸发舟材料?
操作薄膜沉积设备有哪些安全注意事项?
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Electron beam evaporation coating made simple and efficient with Kintek Solution's tools.
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蒸发舟源用于热蒸发系统,适用于沉积各种金属、合金和材料。蒸发舟源有不同厚度的钨、钽和钼,以确保与各种电源兼容。作为一种容器,它可用于材料的真空蒸发。它们可用于各种材料的薄膜沉积,或设计成与电子束制造等技术兼容。
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