知识 射频等离子体在增强材料沉积方面的 4 大优势
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 1个月前

射频等离子体在增强材料沉积方面的 4 大优势

射频等离子体具有多种优势,是材料沉积工艺的首选。

长期运行,无需维护

射频等离子体在增强材料沉积方面的 4 大优势

射频等离子系统(如 ECR 等离子涂层)使用电感耦合进行电离。

因此无需电极。

因此,这些系统只需最少的维护或部件更换。

这样就可以长时间无间断运行。

与导电和绝缘目标材料兼容

直流电场仅适用于导电材料,而射频系统则不同,它使用交流电场。

这些交流场可有效维持导电和绝缘目标材料的等离子体。

这在处理绝缘材料时尤为有利。

直流电场会导致过充电和潜在的有害电弧。

在较低压力下运行

射频系统可在更低的压力下(低于 15 mTorr)维持惰性气体等离子体。

这与直流溅射形成鲜明对比,后者需要 100 mTorr 左右的压力才能达到最佳性能。

较低的压力可减少目标材料粒子与气体离子之间的碰撞。

这为粒子到达基底提供了更直接的途径。

这种效率对于具有绝缘特性的材料至关重要。

射频溅射是此类应用的理想选择。

适用于各种应用的多功能性和效率

这些优点共同使射频等离子体成为一种多功能、高效的方法。

在材料兼容性和长期稳定性至关重要的环境中,它尤其有用。

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