射频溅射是一种专业的镀膜工艺,涉及几个关键参数,以确保高效和高质量的薄膜沉积。
4 个关键因素说明
电源和电压
射频溅射使用交流电源。
这种电源以 13.56 MHz 的特定频率工作。
该频率有助于防止目标材料上的电荷积聚。
峰值到峰值电压设定为 1000 V。
该电压对于维持等离子体和确保高效溅射至关重要。
电子密度和腔室压力
射频溅射中的电子密度范围为 10^9 到 10^11 cm^-3。
这些密度会影响气体的电离和溅射过程的整体效率。
腔室压力设定在 0.5 到 10 mTorr 之间。
较低的压力可减少电离气体碰撞,提高沉积过程的效率。
较低的压力环境有助于实现更均匀、更可控的沉积。材料适用性和沉积速率