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射频溅射是一种专业的镀膜工艺，涉及几个关键参数，以确保高效和高质量的薄膜沉积。
射频溅射使用交流电源。
该频率有助于防止目标材料上的电荷积聚。
该电压对于维持等离子体和确保高效溅射至关重要。
射频溅射中的电子密度范围为 10^9 到 10^11 cm^-3。
这些密度会影响气体的电离和溅射过程的整体效率。
较低的压力可减少电离气体碰撞，提高沉积过程的效率。
较低的压力环境有助于实现更均匀、更可控的沉积。材料适用性和沉积速率
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
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