电子束镀膜是一种在真空环境中通过蒸发材料来制造薄膜的工艺。这种方法利用电子束作为能量载体，直接加热坩埚中的待蒸发材料。电子束由电子枪产生，在工作室内经过仔细聚焦和偏转，以精确瞄准蒸发物。
工艺开始时，首先对工作舱和电子束发生系统进行排空，以确保电子束的产生和传播畅通无阻。当电子束撞击蒸发物时，电子的动能转化为热能，导致材料蒸发。这一过程涉及多种能量损失，包括背散射电子、二次电子、热电子和 X 射线。
在需要沉积薄膜的制造工艺中，电子束涂层的应用至关重要。这些涂层可以由化合物、金属或氧化物制成，每种涂层都旨在增强基底材料的特定性能。例如，涂层可以防止极端温度、划痕或红外线辐射，还可以改变基底材料的透明度或导电性。
电子束涂层对蒸发金属和碳特别有效，能产生非常精细的涂层。这种方法具有很强的指向性，这意味着它的应用区域很集中，有利于需要精确阴影或复制的应用。该过程包括将电子聚焦到目标材料上，加热并使其蒸发。带电粒子从光束中去除，形成低电荷光束，从而最大限度地减少热量和带电粒子对样品的影响。不过，该过程需要在运行几次后重新装载和清洁源。
电子束 (EB) 涂层技术还可用于将液态涂层转化为固态固化薄膜。这些涂层具有出色的附着力、高光泽度、抗划痕和耐磨损性，因此适用于各种需要装饰性和功能性的应用。使用 EB 涂料的优势包括最高的光泽度、抗划伤性和耐磨性，可在各种市场和应用中提供瞬间固化和优质的耐磨性能。
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