电子束镀膜是一种用于在基底上沉积薄膜的复杂工艺。
它是利用电子束作为能量源，在高真空环境中对材料进行蒸发。
这种技术可以精确控制沉积过程，从而制造出具有特定光学和物理特性的涂层。
电子束镀膜工艺的 5 个关键步骤
1.高真空蒸发
该过程在高真空室中开始。
源材料被放置在真空室内的坩埚中。
真空环境可确保蒸发的原子或分子沿直线运动，不会发生碰撞。
这对于保持沉积的纯度和方向性至关重要。
2.使用电子束
产生电子束并将其照射到坩埚中的源材料上。
电子的动能在撞击时转化为热量，使材料蒸发。
这种方法可精确控制加热过程，并避免材料受到坩埚材料的污染。
3.沉积到基底上
蒸发的材料形成蒸汽云，并凝结在基底上。
基底通常置于坩埚上方。
它可以旋转并精确定位，以控制沉积薄膜的厚度和均匀性。
4.增强和变化
使用离子束辅助沉积可以增强该工艺。
这可以提高涂层的附着力和密度。
此外，还可使用多个坩埚在不破坏真空的情况下涂敷不同层的材料。
这样就可以进行复杂的涂层设计。
5.应用
电子束镀膜可用于需要高性能镀膜的各行各业。
其中包括航空航天、汽车、切削工具和腐蚀环境中的保护涂层。
它还广泛应用于激光光学、太阳能电池板和眼镜等设备的光学薄膜。
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