知识 电子束蒸发的电压是多少?
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 1周前

电子束蒸发的电压是多少?

电子束蒸发的电压通常在 3 到 40 千伏之间,常见的设置电压在 10 千伏到 25 千伏之间。这种高电压是将电子束加速到高动能所必需的,然后利用电子束在真空环境中加热和蒸发源材料。

详细说明:

  1. 电压范围和用途:电子束蒸发中使用的电压至关重要,因为它决定了电子的动能。这种能量与施加的电压成正比。例如,在 20-25 千伏的加速电压和几安培的束流条件下,大约 85% 的电子动能可以转化为热能,这对于将材料加热到蒸发点至关重要。

  2. 对材料加热的影响:高压可将电子加速到一定速度,使其在撞击源材料时产生大量能量。这种能量传递会加热材料,温度通常超过 3000 °C,导致材料熔化或升华。电子轰击点的局部加热可确保坩埚污染最小化。

  3. 能量转换和损耗:电子撞击蒸发材料后会迅速失去能量,将动能转化为热能。不过,通过产生 X 射线和二次电子发射,也会损失一些能量。这些损耗只占总能量的一小部分,但对整个工艺的效率和安全性具有重要意义。

  4. 操作灵活性:电压可根据沉积工艺的具体要求进行调整,如被蒸发材料的类型和所需的沉积速率。这种灵活性使电子束蒸发可用于包括高熔点材料在内的多种材料,从而使其成为薄膜沉积的一种多功能技术。

总之,电子束蒸发的电压是一个关键参数,直接影响电子束的能量、源材料的加热和沉积过程的效率。常用的电压范围为 10 千伏至 25 千伏,可提供足够的能量在受控真空环境中蒸发各种材料。

利用 KINTEK SOLUTION 的尖端设备,探索电子束蒸发的精确控制和效率。我们先进的系统提供从 3 到 40 千伏的各种电压,可实现最佳的材料加热和蒸发效果。不要错过提升薄膜沉积工艺的机会--现在就联系我们,我们的专业解决方案将提升您的研究和制造能力。

相关产品

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,常用于电子束蒸发工艺。

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

使用我们的真空悬浮熔炼炉体验精确熔炼。采用先进技术进行有效熔炼,是高熔点金属或合金的理想之选。立即订购,获得高质量的结果。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

光学水浴电解槽

光学水浴电解槽

使用我们的光学水浴槽升级您的电解实验。它具有可控温度和出色的耐腐蚀性,可根据您的特定需求进行定制。立即了解我们的完整规格。

陶瓷蒸发舟套装

陶瓷蒸发舟套装

它可用于各种金属和合金的气相沉积。大多数金属都能完全蒸发而不损失。蒸发筐可重复使用1。

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。

水浴式电解槽 - H 型双层光学元件

水浴式电解槽 - H 型双层光学元件

双层 H 型光学水浴电解槽,具有出色的耐腐蚀性,可提供多种规格。还提供定制选项。

真空电弧炉 感应熔化炉

真空电弧炉 感应熔化炉

了解真空电弧炉在熔化活性金属和难熔金属方面的强大功能。高速、脱气效果显著、无污染。立即了解更多信息!

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌是由锌蒸汽与 H2Se 气体合成的,在石墨吸附器上形成片状沉积物。

红外线传输涂层蓝宝石片/蓝宝石基板/蓝宝石窗口

红外线传输涂层蓝宝石片/蓝宝石基板/蓝宝石窗口

这种基板由蓝宝石制成,具有无与伦比的化学、光学和物理特性。其卓越的抗热震性、耐高温性、耐砂蚀性和耐水性使其与众不同。

2-5 升旋转蒸发器

2-5 升旋转蒸发器

KT 2-5L 旋转蒸发仪可有效去除低沸点溶剂。是制药、化学和生物行业化学实验室的理想之选。

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

KT-CTF16 客户定制多功能炉是您的专属 CVD 炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能,用于精确反应。立即订购!

10-50 升旋转蒸发器

10-50 升旋转蒸发器

KT 旋转蒸发仪可高效分离低沸点溶剂。采用高档材料和灵活的模块化设计,性能有保证。

0.5-4 升旋转蒸发器

0.5-4 升旋转蒸发器

使用 0.5-4 升旋转蒸发仪高效分离 "低沸点 "溶剂。采用高级材料、Telfon+Viton 真空密封和 PTFE 阀门设计,可实现无污染操作。


留下您的留言