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脉冲直流溅射频率是指在溅射过程中向目标材料施加电压尖峰的速率。这些电压尖峰的频率通常设定为 40 至 200 千赫。
说明：
脉冲直流溅射的目的：
脉冲直流溅射的目的是清洁靶面，防止电介质电荷的积累。这对保持溅射过程的效率和效果至关重要。通过施加强大的尖峰电压，可有效清洁靶面，从而有助于靶原子的持续喷射沉积。频率范围
这些电压尖峰的频率不是任意设定的，而是在特定范围内设定的，通常为 40 至 200 kHz。选择这一范围是为了优化电压尖峰对靶表面的清洁效果，同时不会对靶材料造成过度磨损或损坏。频率决定了施加在靶材上的电压极性的变化频率，进而影响靶材表面的清洁速度。
对溅射过程的影响：
脉冲直流溅射的频率对溅射过程的动态起着重要作用。频率越高，清洁效果越频繁，从而使溅射过程更稳定、更高效。但是，如果频率过高，可能会对靶材造成不必要的磨损。相反，频率较低时，清洁效果可能不佳，有可能导致靶材表面堆积介电材料，从而阻碍溅射过程。
运行模式：
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
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