知识 电子束蒸发与热蒸发有何区别?5 个考虑要点
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

电子束蒸发与热蒸发有何区别?5 个考虑要点

说到蒸发薄膜沉积材料,有两种常见的方法,即电子束蒸发和热蒸发。

5 个考虑要点

电子束蒸发与热蒸发有何区别?5 个考虑要点

1.加热方法

热蒸发使用电流加热坩埚。这会使坩埚内的材料熔化,然后蒸发。

而电子束蒸发则使用高能电子束直接加热材料。这束电子来自带电的钨丝。

2.材料适用性

热蒸发适用于熔点较低的材料,如金属和某些非金属。

电子束蒸发可处理熔点较高的材料,包括氧化物。

3.纯度和密度

电子束蒸发通常能产生纯度和密度更高的薄膜。这是因为材料是直接加热的,避免了坩埚的污染。

而热蒸发会导致薄膜涂层的密度较低,并且由于坩埚被加热,产生杂质的风险较高。

4.沉积速率

与热蒸发相比,电子束蒸发通常具有更高的沉积速率。这意味着它可以更快地沉积薄膜。

5.工艺环境

电子束蒸发是在高真空室中进行的。这可确保气相中的原子或分子沉淀并在基底上形成薄膜涂层。

热蒸发也是在受控环境中进行的,但由于使用了坩埚,过程有所不同。

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