说到蒸发薄膜沉积材料，有两种常见的方法，即电子束蒸发和热蒸发。
5 个考虑要点
1.加热方法
热蒸发使用电流加热坩埚。这会使坩埚内的材料熔化，然后蒸发。
而电子束蒸发则使用高能电子束直接加热材料。这束电子来自带电的钨丝。
2.材料适用性
热蒸发适用于熔点较低的材料，如金属和某些非金属。
电子束蒸发可处理熔点较高的材料，包括氧化物。
3.纯度和密度
电子束蒸发通常能产生纯度和密度更高的薄膜。这是因为材料是直接加热的，避免了坩埚的污染。
而热蒸发会导致薄膜涂层的密度较低，并且由于坩埚被加热，产生杂质的风险较高。
4.沉积速率
与热蒸发相比，电子束蒸发通常具有更高的沉积速率。这意味着它可以更快地沉积薄膜。
5.工艺环境
电子束蒸发是在高真空室中进行的。这可确保气相中的原子或分子沉淀并在基底上形成薄膜涂层。
热蒸发也是在受控环境中进行的，但由于使用了坩埚，过程有所不同。
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