PVD 涂层以其极高的表面硬度而闻名，是目前最坚硬的涂层之一。
PVD 涂层的硬度主要归功于涂层原子中的高比例共价键。
这些键是在真空室中的沉积过程中形成的。
这种工艺可以精确控制薄膜的密度、结构和化学计量。
这种精确性提高了硬度和其他性能，如耐磨性和耐腐蚀性。
5 个关键因素说明
1.PVD 涂层的硬度解释
PVD 涂层的硬度明显高于传统涂层。
这主要归功于其沉积方法，即涂层材料在单原子或分子水平上进行转移。
这种精细的工艺可形成致密、坚硬的涂层，其硬度是铬的四倍。
PVD 中特定材料和工艺的使用，如离子镀、离子注入、溅射和激光表面合金化，进一步促进了这些坚硬属性的发展。
2.提高硬度的工艺
PVD 工艺包括在真空室中蒸发涂层材料，使其在基材上凝结。
这种 "视线 "技术可确保原子嵌入物体，形成牢固的结合和均匀的坚硬涂层。
在此过程中不发生化学反应也有助于提高涂层的稳定性和硬度。
3.用于 PVD 涂层的材料
PVD 涂层中使用的一种著名材料是类金刚石碳（DLC）。
这种材料以硬度和耐磨性著称，喷射到金属表面后迅速冷却，形成微米厚的涂层，与基体材料高度附着。
这种附着力可确保涂层不会剥落或脱落，长期保持其硬度和保护性能。
4.精确的沉积工艺
PVD 的精确沉积工艺是实现高硬度的关键因素。
该工艺可确保涂层材料均匀分布并与基体紧密结合。
5.无化学反应
沉积过程中不发生化学反应有助于提高涂层的稳定性和硬度。
这可确保涂层经久耐用、抗磨损和抗腐蚀。
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