化学气相沉积（CVD）是一种从碳氢化合物气体混合物中生长钻石的方法。该工艺包括将薄薄的钻石种子放入密封的腔室中，加热到大约 800 摄氏度，然后在腔室中注入富含碳的气体，如甲烷和其他气体混合气体。气体被电离后，分子键断裂，使纯碳附着在金刚石种子上。然后，碳原子逐层堆积，形成新的钻石晶体。
详细说明：
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金刚石种子的制备：
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制作过程首先要选择一片薄薄的钻石原石，厚度通常约为 300 微米，大小为 10x10mm。这种钻石原石通常取自实验室以前制造的钻石。对其进行彻底清洁，以确保不存在任何缺陷，因为任何杂质都会在新钻石中形成内含物。设置密室：
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将清洗过的钻石原石放入一个密封室中。密封至关重要，可防止任何外部气体进入，从而影响正在培育的钻石的纯度和质量。
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引入气体：
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然后将富含碳的混合气体（通常是甲烷和氢气）注入密室。有时，可能会加入氮气以加速这一过程，但这会导致钻石呈黄色，优质合成钻石生产商通常会避免使用氮气。加热和电离：
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腔室内的气体被加热到非常高的温度，通常在 800°C 左右。这种高温是分解含碳气体和氢气、促进活性基团形成所必需的。然后，通常使用微波或激光对气体进行电离，从而切断气体中的分子键。
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沉积和生长：
电离过程导致气体分子分解，使纯碳附着在金刚石种子上。这些碳慢慢地在种子上堆积，与现有的金刚石结构形成牢固的原子键。生长过程逐层进行，每一层都会增加金刚石晶体的尺寸和复杂性。
可控环境：
