热蒸发是一种物理气相沉积（PVD）技术，包括在高真空环境中将材料加热到其蒸发点。这种方法的特点是简单、耗能低、性质温和，产生的蒸发粒子能量约为 0.12 eV 或 1500 K。
工艺细节：
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加热材料： 该工艺首先加热目标材料，通常是在蒸发源中使用电阻加热，直到其达到沸点并开始蒸发。加热是在压力小于 10^-5 托的真空室中进行的，这样可以确保蒸气在传输过程中不会与其他原子发生反应或散射。
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蒸气的传输： 蒸发后，材料会形成蒸汽云，通过真空室进行传输。真空环境至关重要，因为它能让蒸汽自由地直接向基底移动，而不受大气气体的干扰。
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在基底上沉积： 气化后的材料到达基底，在那里凝结并形成薄膜。这种沉积可重复多次，使薄膜生长和成核，达到所需的厚度和质量。
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多功能性： 热蒸发能够沉积多种材料，包括铝、银、镍、铬和镁等金属，因此是一种适用于各种应用的多功能方法。
优点
- 简单： 该工艺简单明了，易于控制，只需最少的设备和设置。
- 速度快： 它可以相对快速地沉积薄膜，对研究和生产环境都有好处。
- 性质温和： 蒸发粒子的能量低，对基底的损害最小，可确保高质量的薄膜沉积。
应用：
热蒸发技术广泛应用于电子设备制造、光学镀膜以及其他各种需要精确、均匀薄膜沉积的工业应用领域。它能够沉积多种材料，因此成为许多技术领域的首选。
