热蒸发是一种物理气相沉积（PVD）技术，包括在高真空环境中将材料加热到其蒸发点。
这种方法的特点是简单、低能耗和温和。
它产生的蒸发粒子能量约为 0.12 eV 或 1500 K。
该工艺广泛应用于实验室和工业环境中基底薄膜的沉积。
需要了解的 5 个要点
1.加热材料
该工艺首先要加热目标材料，通常是在蒸发源中使用电阻加热，直到其达到沸点并开始蒸发。
这种加热是在压力小于 10^-5 托的真空室中进行的，这样可以确保蒸气在移动过程中不会与其他原子发生反应或散射。
2.蒸汽的传输
一旦蒸发，材料就会形成蒸汽云，并通过真空室进行传输。
真空环境至关重要，因为它可以让蒸汽自由地直接向基底移动，而不受大气气体的干扰。
3.在基底上沉积
气化后的材料到达基底，在那里凝结并形成薄膜。
这一沉积过程可重复多次，使薄膜生长并形成核，达到所需的厚度和质量。
4.多功能性
热蒸发能够沉积多种材料，包括铝、银、镍、铬和镁等金属，因此是一种适用于各种应用的多功能方法。
5.优点
简单： 该工艺简单明了，易于控制，只需最少的设备和设置。
速度快： 可相对快速地沉积薄膜，这对研究和生产环境都有好处。
性质温和： 蒸发颗粒的能量低，可最大限度地减少对基底的损害，确保薄膜沉积的高质量。
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