产品 实验室耗材和材料 精细陶瓷 碳化硅(SIC)陶瓷板
碳化硅(SIC)陶瓷板

精细陶瓷

碳化硅(SIC)陶瓷板

货号 : KM-DG03

价格根据 规格和定制情况变动


材料
氮化硅
规格
查看表格
ISO & CE icon

运输:

联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

应用

氮化硅是一种具有独特性能的陶瓷材料,可应用于各行各业。与其他陶瓷不同,氮化硅在烧结过程中不会收缩。氮化硅具有极高的强度,尤其是在热压状态下,使其成为已知最坚硬的物质之一。氮化硅和晶片都是由氮化硅材料衍生出来的重要产品,氮化硅是一种共价键化合物,以其高强度、低密度和出色的耐温性而著称。这些特性使它们成为对耐用性和耐高温性要求极高的应用领域的理想选择。

  • 轴承技术:氮化硅可用于汽车工程中的轴承球和滚子以及轴承技术。
  • 密封用途:各种用途的密封环。
  • 发动机部件:氮化硅可用于发动机气门、涡轮增压器转子和涡轮叶片。
  • 熔融金属处理:用于处理熔融金属。
  • 热电偶护套:热电偶护套由氮化硅制成,用于温度测量。
  • 焊接工具和夹具用于焊接夹具、固定装置和滚筒。
  • 喷嘴和定位销:氮化硅喷嘴和定心销。
  • 拉拔工具和管材成型工具:用于拉拔工具和管材成型应用。
  • 高性能切削工具:氮化硅用于生产高性能切削工具和可转位刀片。
  • 管道和管材:用于制造管道和管材。
  • 机械工程中的特殊应用:氮化硅可用于机械工程中的各种特殊应用。

氮化硅板是通过不同的化学反应方法合成的,通常用于冶金工业。它们具有优异的抗热震性、抗蠕变性、抗氧化性、低导热性和高耐磨性。氮化硅板可用于生产高级陶瓷管、轴承辊、陶瓷切割材料、Cyrol 轴承辊、喷嘴、密封件、管成型工具和特殊机械工程应用。

细节和零件

氮化硅板细节 1氮化硅板细节 2氮化硅板细节 3氮化硅板细节 4氮化硅板细节 5氮化硅板细节 6

技术规格

25*50*5/6 毫米 50*50*4/5 毫米 100*100*4 毫米 100*100*12mm 150*150*6 毫米
25*50*10/8mm 50*50*6/8mm 100*100*5mm 100*100*15mm 150*150*8mm
50*50*1 毫米 50*50*10mm 100*100*6 毫米 100*100*16 毫米 150*150*10mm
50*50*2 毫米 100*100*2 毫米 100*100*8 毫米 100*100*30 毫米
50*50*3 毫米 100*100*3 毫米 100*100*10 毫米 150*150*5 毫米

我们展示的产品有不同的尺寸,也可根据要求定制尺寸。

优点

  • 在宽温度范围内具有高强度
  • 断裂韧性高
  • 高硬度
  • 出色的耐磨性
  • 热膨胀率低,热导率高
  • 良好的抗热震性
  • 良好的抗化学性和抗氧化性

FAQ

什么是先进陶瓷?

先进陶瓷是具有高强度、耐高温和优异导电性等增强特性的专用陶瓷材料。由于其独特的特性,它们被广泛应用于各行各业。

什么是工程陶瓷?

工程陶瓷是针对特定机械、热、电和化学特性而设计的先进陶瓷材料。它们可用于在极端条件下要求高性能的应用。

精细陶瓷的主要用途有哪些?

精密陶瓷应用广泛,包括餐具、炊具、墙砖和卫生洁具。它们还用于砖和瓦等结构陶瓷、炉窑隔热材料等耐火材料、金属坩埚以及高温应用领域的高级技术陶瓷。

先进陶瓷的主要类型有哪些?

先进陶瓷的主要类型包括氧化铝(Al₂O₃)、氧化锆(ZrO₂)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si₃N₄)、氮化铝(AlN)和氮化硼(BN)。每种类型都有适合不同应用的特定性能。

工程陶瓷的主要类型有哪些?

工程陶瓷的主要类型包括氧化铝(Al₂O₃)、氧化锆(ZrO₂)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si₃N₄)和氮化硼(BN)。每种陶瓷都具有适合不同应用的独特性能。

精密陶瓷的主要类型有哪些?

精细陶瓷的主要类型包括氧化铝(Al2O3)、氧化锆、氮化硼(BN)、碳化硅(SiC)和氮化硅(SiN)。每种类型都有适合不同应用的独特性能。

什么是射频 PECVD?

RF PECVD 是射频等离子体增强化学气相沉积的缩写,是一种在低压化学气相沉积过程中,利用辉光放电等离子体影响工艺,在基底上制备多晶薄膜的技术。射频 PECVD 方法已在标准硅集成电路技术中得到广泛应用,该技术通常使用平面晶片作为基底。这种方法的优势在于薄膜制造成本低,沉积效率高。材料也可以沉积为分级折射率薄膜或具有不同特性的纳米薄膜堆。

先进陶瓷的应用领域有哪些?

先进陶瓷广泛应用于航空航天、汽车、电子、医疗设备和工业机械等领域。它们在极端环境(包括高温和腐蚀性条件)下的高性能表现备受推崇。

工程陶瓷有哪些应用?

工程陶瓷广泛应用于航空航天、汽车、电子和冶金等行业。应用领域包括耐磨部件、高温部件、电绝缘材料和散热器。

精密陶瓷的原理是什么?

精密陶瓷是通过对原材料进行高温烧结,形成致密、坚固和耐用的材料。每种陶瓷的具体特性都取决于烧结过程中获得的化学成分和微观结构。

射频 PECVD 如何工作?

射频 PECVD 的工作原理是在真空室中产生等离子体。将前驱体气体引入真空室,然后施加射频功率以产生电场。该电场导致前驱体气体电离,形成等离子体。等离子体中含有可与基底表面发生化学反应的活性物质,从而形成薄膜沉积。射频功率还有助于控制等离子体的能量,从而更好地控制薄膜的特性,如成分、均匀性和附着力。可以调整气体流速、压力和射频功率等工艺参数,以优化薄膜沉积工艺。

如何制造先进陶瓷?

先进陶瓷通常通过烧结、热压或等静压等工艺制造。这些方法可确保形成致密、均匀的结构,并具有所需的机械和热性能。

工程陶瓷与传统陶瓷有何不同?

工程陶瓷专为特定的高性能应用而设计,具有卓越的机械强度、耐热性和化学稳定性。传统陶瓷通常用于装饰和家居用途。

使用精密陶瓷有哪些优势?

精密陶瓷具有多种优点,包括耐高温、优异的电绝缘性、高硬度、耐磨性、耐化学性和低热膨胀性。这些特性使它们成为极端环境和特殊应用的理想选择。

射频 PECVD 有哪些优势?

射频 PECVD 在薄膜沉积方面具有多项优势。首先,它可以沉积高质量的薄膜,并对薄膜特性(如厚度、成分和均匀性)进行出色的控制。等离子体的使用提高了工艺的反应性,与传统的热 CVD 方法相比,能在更低的温度下沉积薄膜。射频 PECVD 还具有更好的阶跃覆盖率,可以沉积出高宽比结构的薄膜。另一个优势是能够沉积多种材料,包括氮化硅、二氧化硅、非晶硅和其他各种薄膜材料。该工艺具有高度可扩展性,可轻松集成到现有制造工艺中。此外,与其他薄膜沉积技术相比,射频 PECVD 是一种相对经济有效的方法。

使用先进陶瓷有哪些优势?

先进陶瓷的优点包括高硬度、耐磨性、优异的热绝缘性和电绝缘性、耐高温性和化学稳定性。这些特性使它们成为高要求应用的理想选择。

使用氧化铝陶瓷有哪些优势?

氧化铝陶瓷以其高硬度、耐磨性和出色的电绝缘性而著称。它们还具有良好的导热性和化学稳定性,因此适合高温应用。

氧化铝陶瓷和氧化锆陶瓷有什么区别?

氧化铝陶瓷以其良好的导电性、机械强度和耐高温性著称。而氧化锆陶瓷则具有高强度、高韧性和出色的耐磨性。

为什么在某些应用中首选氧化锆陶瓷?

氧化锆陶瓷因其高强度、韧性和抗热震性而受到青睐。它们通常用于要求在高应力和高温条件下具有耐久性和可靠性的应用中。

碳化硅陶瓷为何用于高温应用?

碳化硅(SiC)陶瓷因其高强度、低密度和出色的耐高温性能而被用于高温应用领域。它们还具有耐化学腐蚀性,因此适用于恶劣环境。

碳化硅陶瓷为何适合高温应用?

碳化硅陶瓷具有出色的导热性和高温稳定性,因此非常适合用于熔炉、热交换器和其他高温环境。

氮化硼陶瓷有何独特之处?

氮化硼(BN)陶瓷因其高熔点、高硬度、高导热性和高电阻率而独树一帜。它们的晶体结构与石墨烯相似,比金刚石更坚硬,因此适用于高性能应用。

氮化硼陶瓷如何用于电子产品?

氮化硼陶瓷因其出色的电绝缘性和导热性而被用于电子产品中。它们有助于电子元件散热,防止过热并提高性能。

先进陶瓷如何提高能源效率?

先进陶瓷能在能源生产和转换过程中提供耐高温和腐蚀性环境的材料,有助于提高能源效率。它们有助于减少能源损耗,提高系统的整体效率。

工程陶瓷的制造工艺是什么?

工程陶瓷通常通过烧结、热压或化学气相沉积等工艺制造。这些工艺可确保形成致密、坚固和耐用的陶瓷材料。

工程陶瓷能否针对特定应用进行定制?

是的,工程陶瓷可以定制,以满足特定的应用要求。这包括定制其形状、尺寸和材料成分,以实现所需的机械、热或电气性能。
查看更多该产品的问题与解答

4.9

out of

5

These Silicon Carbide plates are so tough! They're perfect for my lab's high-temperature applications.

Anika Hurt

4.8

out of

5

The quality of these plates is amazing. They've held up great in our lab's harsh conditions.

Jada Johns

4.7

out of

5

The durability of these plates is impressive. They've lasted us for years without any signs of wear.

Peter Payne

4.9

out of

5

These plates are a great value for the price. They're affordable and still top-notch quality.

Olivia Oliver

4.8

out of

5

The delivery of these plates was incredibly fast. We received them within days of ordering.

Liam Lewis

4.7

out of

5

These plates are technologically advanced. They're made with the latest materials and techniques.

Sophia Smith

4.9

out of

5

The thermal shock resistance of these plates is excellent. They can withstand extreme temperature changes without cracking.

Elijah Edwards

4.8

out of

5

These plates are incredibly wear-resistant. We've used them for months and they still look new.

Isabella Garcia

4.7

out of

5

The chemical resistance of these plates is superb. They're not affected by acids, bases, or other corrosive chemicals.

Jackson Baker

4.9

out of

5

These plates are very strong and can withstand high temperatures.

Mia Rodriguez

4.8

out of

5

The plates are very durable and have lasted for a long time in our lab.

Benjamin Brown

4.7

out of

5

These plates are a great addition to our lab. They're easy to use and clean.

Amelia Jones

4.9

out of

5

I would definitely recommend these plates to other labs.

Oliver Williams

PDF - 碳化硅(SIC)陶瓷板

下载

目录 精细陶瓷

下载

目录 高级陶瓷

下载

目录 工程陶瓷

下载

目录 精细陶瓷

下载

目录 Rf Pecvd

下载

请求报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(原文如此)陶瓷片由高纯度碳化硅和超细粉组成,经振动成型和高温烧结而成。

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅板在高温下性能均匀,是冶金工业中常用的陶瓷材料。

碳化硅(SIC)陶瓷片平板/波纹散热器

碳化硅(SIC)陶瓷片平板/波纹散热器

碳化硅(原文如此)陶瓷散热器不仅不会产生电磁波,还能隔离电磁波和吸收部分电磁波。

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

正在为您的实验室寻找高质量的碳化硅 (SiC) 材料?别再犹豫了!我们的专家团队以合理的价格根据您的确切需求生产和定制碳化硅材料。立即浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品系列。

碳化硅(SiC)加热元件

碳化硅(SiC)加热元件

体验碳化硅 (SiC) 加热元件的优势:使用寿命长、耐腐蚀、抗氧化、加热速度快、易于维护。立即了解更多信息!

氮化硼 (BN) 陶瓷导电复合材料

氮化硼 (BN) 陶瓷导电复合材料

由于氮化硼本身的特性,其介电常数和介电损耗非常小,因此是一种理想的电绝缘材料。

氮化硼 (BN) 陶瓷板

氮化硼 (BN) 陶瓷板

氮化硼(BN)陶瓷板不使用铝水润湿,可为直接接触熔融铝、镁、锌合金及其熔渣的材料表面提供全面保护。

氮化硼 (BN) 陶瓷部件

氮化硼 (BN) 陶瓷部件

氮化硼(BN)是一种具有高熔点、高硬度、高导热性和高电阻率的化合物。其晶体结构与石墨烯相似,比金刚石更坚硬。

高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找二氧化硅材料?我们专业定制的二氧化硅材料有各种纯度、形状和尺寸。立即浏览我们的各种规格产品!

氮化铝 (AlN) 陶瓷片

氮化铝 (AlN) 陶瓷片

氮化铝(AlN)具有与硅相容性好的特点。它不仅可用作结构陶瓷的烧结助剂或强化相,而且其性能远远超过氧化铝。

氧化铝(Al2O3)板--高温耐磨绝缘材料

氧化铝(Al2O3)板--高温耐磨绝缘材料

高温耐磨绝缘氧化铝板具有优异的绝缘性能和耐高温性能。

氮化硼 (BN) 陶瓷管

氮化硼 (BN) 陶瓷管

氮化硼(BN)以其高热稳定性、出色的电绝缘性能和润滑性能而著称。

高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

正在为您的实验室寻找高品质的硅(Si)材料?别再犹豫了!我们定制生产的硅(Si)材料有各种纯度、形状和尺寸,可满足您的独特要求。请浏览我们精选的溅射靶材、粉末、箔等产品。立即订购!

氮化硼 (BN) 陶瓷定制部件

氮化硼 (BN) 陶瓷定制部件

氮化硼(BN)陶瓷可以有不同的形状,因此可以制造出产生高温、高压、绝缘和散热以避免中子辐射的陶瓷。

氧化锆陶瓷板 - 钇稳定精密机械加工

氧化锆陶瓷板 - 钇稳定精密机械加工

钇稳定氧化锆具有高硬度和耐高温的特点,已成为耐火材料和特种陶瓷领域的重要材料。

氮化硼 (BN) 陶瓷棒

氮化硼 (BN) 陶瓷棒

氮化硼(BN)棒与石墨一样,是氮化硼的最强晶体形态,具有优异的电绝缘、化学稳定性和介电性能。

碳化钛 (TiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

碳化钛 (TiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

以合理的价格为您的实验室提供高质量的碳化钛 (TiC) 材料。我们提供各种形状和尺寸的产品,包括溅射靶材、粉末等。根据您的特定需求量身定制。

六角氮化硼 (HBN) 陶瓷环

六角氮化硼 (HBN) 陶瓷环

氮化硼陶瓷(BN)环通常用于高温应用,如熔炉夹具、热交换器和半导体加工。

氮化硅 (Si3N4) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氮化硅 (Si3N4) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

为您的实验室需求提供经济实惠的氮化硅 (Si3N4) 材料。我们生产和定制各种形状、尺寸和纯度的产品,以满足您的要求。浏览我们的溅射靶材、粉末等产品系列。

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

硅(Si)被广泛认为是近红外(NIR)范围(约 1 μm 至 6 μm)应用中最耐用的矿物和光学材料之一。

相关文章

安装碳化硅棒的注意事项

安装碳化硅棒的注意事项

安装碳化硅支架的注意事项

查看更多
陶瓷等静压成型:工艺与精度

陶瓷等静压成型:工艺与精度

在生产高质量陶瓷部件时,等静压是最关键的工艺之一。这项技术可确保各行各业生产陶瓷所需的均匀性和精确度。等静压包括精心选择压制粉末和控制工具,以达到所需的均匀性。通过了解等静压工艺,制造商可以确保生产出符合尺寸精度和性能严格标准的陶瓷。

查看更多
等离子体在 PECVD 涂层中的作用

等离子体在 PECVD 涂层中的作用

PECVD(等离子体增强化学气相沉积)是一种薄膜沉积工艺,广泛用于在各种基底上制作涂层。在这种工艺中,等离子体被用来在基底上沉积各种材料的薄膜。

查看更多
冷等静压技术的优点

冷等静压技术的优点

冷等静压(CIP)是一种用于将粉末压制成特定形状或尺寸的工艺。这种方法包括在液体介质中对粉末施加高压,压力通常在 100 到 200 兆帕之间。

查看更多
了解冷等静压工艺:工艺、优势和类型

了解冷等静压工艺:工艺、优势和类型

冷等静压(CIP),又称冷等静压实,是一种材料加工技术,它是指将材料从各个侧面施加均匀的压力。这是通过将材料浸入高压流体介质并施加液压来实现的。CIP 对粉末状材料的成型和加固特别有效,可以制造出复杂的形状并达到较高的生坯密度。

查看更多
热等静压技术为何如此有效

热等静压技术为何如此有效

热等静压(HIP)是一种利用高温高压改善材料机械性能的制造工艺。该工艺包括将零件置于密封腔内,并对其施加高温和高压。

查看更多
安装二硅化钼(MoSi2)加热元件时的注意事项

安装二硅化钼(MoSi2)加热元件时的注意事项

安装 MoSi2 加热元件时的注意事项

查看更多
了解粉末冶金中的冷等静压(CIP)和热等静压(HIP)

了解粉末冶金中的冷等静压(CIP)和热等静压(HIP)

冷等静压(CIP)和热等静压(HIP)是用于生产高密度和高质量金属部件的两种粉末冶金技术。

查看更多
火花等离子烧结炉综合指南》:应用、特点和优势

火花等离子烧结炉综合指南》:应用、特点和优势

探索火花等离子烧结炉 (SPS) 在材料科学领域的先进功能和应用。了解 SPS 技术如何为各种材料提供快速、高效和多功能烧结。

查看更多
用 CVD 法制备硅碳负极材料的技术概述

用 CVD 法制备硅碳负极材料的技术概述

本文讨论了通过 CVD 制备的硅碳负极材料的关键技术方面,重点是其合成、性能改进和工业应用潜力。

查看更多
用于 TiN 和 Si3N4 沉积的 PECVD 的详细工艺和参数

用于 TiN 和 Si3N4 沉积的 PECVD 的详细工艺和参数

深入探讨 TiN 和 Si3N4 的 PECVD 工艺,包括设备设置、操作步骤和关键工艺参数。

查看更多
氧化锆陶瓷材料的全面概述

氧化锆陶瓷材料的全面概述

详细介绍氧化锆陶瓷,包括特性、历史、制备、成型、烧结和应用。

查看更多