PVD(物理气相沉积)涂层的三种主要类型是热蒸发、溅射沉积和电弧气相沉积。每种工艺都会产生不同的材料特性,即使涂层看起来相似或由相同的材料制成。PVD 涂层通常是 0.5 至 5 微米的薄膜,可用于各种基材,包括尼龙、塑料、玻璃、陶瓷和金属。
热蒸发: 这种工艺是在真空中将材料加热到蒸发点,使其变成蒸汽,然后凝结在基底上,形成薄膜。这种方法适用于熔点较低的材料,常用于装饰涂层。
溅射沉积: 在这一工艺中,目标材料受到离子轰击,导致原子喷射并沉积到基底上。这种方法用途广泛,可用于多种材料,包括高熔点材料。由于能产生致密、均匀的涂层,因此常用于功能涂层。
电弧气相沉积: 这种技术使用大功率电弧蒸发涂层材料。电弧产生等离子体,将材料沉积到基材上。这种方法以生产高硬度和高附着力的涂层而著称,因此适用于切削工具和航空航天部件等要求苛刻的应用。
PVD 涂层可分为功能性涂层和装饰性涂层。功能性涂层,如氮化钛(TiN),旨在提高工具或部件的性能和使用寿命,降低制造成本。装饰性涂层,如基于 Zr 的薄膜,可改善部件的外观,同时还具有耐磨性和防污性。
常见的 PVD 涂层材料包括钛、锆、铝、不锈钢和铜。这些涂层应用广泛,包括电子电路、光学、燃气轮机叶片和机床,具有耐磨、耐腐蚀和美观等优点。
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