CVD（化学气相沉积）面临着影响其效率、安全性和成本效益的若干重大挑战。这些问题包括工作温度高、使用有毒和活性前驱气体、成本高、基底尺寸有限以及工艺复杂。
工作温度高：
CVD 通常在高温下运行，温度通常在 1000°C 左右。这种高温要求可能会带来问题，因为许多基底在这种温度下并不热稳定性。这就限制了可用于 CVD 工艺的材料类型。一些改良的 CVD 工艺，如等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 或等离子体辅助化学气相沉积 (PACVD)，可在较低温度下运行，这有助于扩大可用基底的范围。有毒和反应性前体气体的使用：
化学气相沉积需要高蒸气压的化学前驱体，这些前驱体通常有毒且危险。这些气体对人类健康和环境构成重大风险。处理、储存和处置这些前驱体需要采取特殊的安全措施，包括气柜、气体监测系统和减排设备。这些预防措施增加了 CVD 工艺的复杂性和成本，还可能涉及严格的合规性。
成本高：
化学气相沉积设备价格昂贵，而且该过程是能源密集型的，导致运营成本居高不下。此外，中和 CVD 工艺产生的有毒和腐蚀性副产品也增加了总成本。这些工艺带来的经济负担可能非常沉重，影响了将 CVD 用于某些应用的经济可行性。基底尺寸有限：
CVD 工艺通常仅限于在适合 CVD 设备处理室的基底上沉积薄膜。这一局限性限制了 CVD 在大型或形状不规则基底上的应用，这对于常用此类基底的行业来说是一个重大缺陷。
工艺复杂：
