物理气相沉积（PVD）是一种将材料薄膜应用到各种基底上的技术。热蒸发就是 PVD 的一个常见例子。
PVD 热蒸发的 4 个关键步骤
1.加热材料
在热蒸发过程中，需要沉积的材料（如铝或银）被放置在高真空室中加热。真空环境至关重要，因为它能降低压力，使材料在比正常大气压力下更低的温度下汽化。
2.蒸汽的形成
随着材料的升温，它达到气化点并变成蒸汽。由于环境压力较低，这些蒸汽会在腔体内形成云雾。腔体内的蒸汽压力足以形成可见的蒸汽流。
3.在基底上沉积
气化后的材料穿过腔室，沉积到基底表面。基底可以由石英、玻璃或硅等材料制成，基底的位置应使其表面朝向蒸汽源。蒸汽与冷却基底接触后凝结，形成薄膜。
4.控制和精度
该工艺受到高度控制，可在基底的特定区域精确应用材料。薄膜厚度可从埃到微米不等，具体取决于应用和涂层的具体要求。
这个例子说明了 PVD 的基本原理，即利用物理机制（加热）将固体材料转化为蒸汽，然后沉积到基底上形成薄膜。由于这种技术能够制造出耐用、精密的涂层，因此被广泛应用于电子、光学和医疗设备等各个行业。
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