物理气相传输（PVT）又称物理气相沉积（PVD），是一种真空沉积方法，用于在金属、陶瓷、玻璃和聚合物等基材上生产薄膜和涂层。该工艺涉及材料从凝结相到气相的转变，然后再以薄膜的形式回到凝结相。这种方法对于需要薄膜来实现光学、机械、电气、声学或化学功能的应用至关重要，这些应用包括半导体设备、微机电设备和涂层切削工具。
工艺详情：
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从固态到气态的转变： 待沉积材料在真空室中开始时呈固态。然后使用激光脉冲、电弧或离子/电子轰击等各种方法将其气化。这种气化发生在原子或分子水平，确保了精细可控的沉积。
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传输和沉积： 气化后的材料通过真空室传输，在真空室中与存在的气体环境发生反应。这一传输阶段至关重要，因为它决定了沉积的均匀性和质量。然后，蒸气在基底上凝结成固体，形成薄膜。
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控制和精度： PVT/PVD 工艺具有高度可控性，可调整腔体内的气体和蒸汽成分、颗粒密度和压力。这种控制可确保只沉积所需的材料，最大限度地减少污染和过冲（在非预期表面沉积）。
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各领域的优势： PVT/PVD 的精确性和控制性使其适用于医疗领域的应用，因为这些领域的设备需要精确的涂层，以便在人体附近或内部安全使用。此外，它还可用于需要耐用性和特定功能特性的制造领域，如切削工具和电子设备。
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PVD 工艺类型： 常见的 PVD 工艺包括溅射和蒸发。热蒸发是一种特殊的方法，它是在高真空室中加热固体材料，产生蒸汽沉积在基底上。这种方法对于制作厚度精确的薄膜特别有效。
结论
物理气相传输/沉积法是一种在各种基底上沉积薄膜的多功能精确方法。它能够在原子水平上控制沉积过程，因此在许多技术和工业应用中都具有重要价值，可确保生产出高质量的功能性涂层。
