化学中的沉积是在固体表面逐原子或逐分子地形成薄层或厚层物质的过程。
这一过程会极大地改变基底表面的特性，具体取决于预期应用。
沉积化学过程中会发生什么？5 个关键步骤说明
1.挥发性化合物的蒸发
首先蒸发要沉积的物质。
这包括将固态或液态物质转化为气态。
2.热分解或化学反应
蒸气经过热分解变成原子和分子，或者与基底表面的其他蒸气、气体或液体发生反应。
这一步至关重要，因为它决定了沉积层的成分和结构。
3.非挥发性反应产物的沉积
化学反应的产物通常是不挥发性的，它们会沉积到基底上，形成一层薄膜。
这种沉积是在特定条件下进行的，包括从几托到高于大气压的压力和 1000°C 左右的温度。
4.4. CVD 的应用和变化
CVD 可用于增强基材的表面特性，提供具有润滑性、耐候性和疏水性等特定特性的涂层。
该工艺用途广泛，可适用于各种材料和技术，包括电子束光刻（EBL）、原子层沉积（ALD）、常压化学气相沉积（APCVD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。
这些变化允许对沉积过程进行精确控制，针对不同的材料和应用进行优化。
5.物理气相沉积（PVD）
另一种沉积方法是物理气相沉积（PVD），它采用高能技术在真空中蒸发固体材料，然后沉积到目标材料上。
两种常见的 PVD 方法是溅射和蒸发。
磁控溅射是一种基于等离子体的方法，它利用等离子体离子与材料相互作用，使原子溅射到基底上形成薄膜。
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