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热蒸发系统的主要缺点是杂质含量高，由此产生的薄膜密度低。使用离子辅助源可以在一定程度上缓解这一问题，但它仍然是一个重要的限制因素。
杂质含量高：
在物理气相沉积 (PVD) 方法中，热蒸发系统的杂质含量往往最高。这主要是因为该工艺需要在真空室中将源材料加热到高温。在加热过程中，源材料中的任何杂质或污染物也会蒸发并成为沉积薄膜的一部分。这会导致薄膜质量不佳，影响其在要求高纯度应用中的性能。低密度薄膜：
热蒸发产生的薄膜通常密度较低，这意味着它们可能无法很好地附着在基底上，而且可能是多孔的。这种多孔性会影响薄膜的机械和电气性能，使其不太适合需要致密、均匀薄膜的应用。密度低也是杂质含量高的原因之一，因为孔隙会吸附杂质或使杂质在薄膜中迁移。
利用离子辅助减少杂质
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射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
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