知识 什么是化学气相沉积原理?(三个关键步骤详解)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

什么是化学气相沉积原理?(三个关键步骤详解)

化学气相沉积(CVD)是一种通过气态前驱体的化学反应在基底上沉积薄膜或涂层的工艺。

CVD 的原理包括三个主要步骤:挥发性化合物的蒸发、蒸气在基底上的热分解或化学反应以及非挥发性反应产物的沉积。

这一过程通常需要高温和特定的压力范围,以促进反应并确保涂层均匀。

化学气相沉积的原理是什么?(3 个关键步骤说明)

什么是化学气相沉积原理?(三个关键步骤详解)

1.挥发性化合物的蒸发

第一步,蒸发挥发性前驱体,即待沉积物质的化合物。

这种前驱体通常是一种卤化物或氢化物,可根据基底上所需沉积的材料进行选择。

蒸发过程为后续反应准备了前驱体。

2.热分解或化学反应

一旦前驱体处于气态,就会被引入反应室,在那里受到高温(通常在 1000°C 左右)的作用。

在这种温度下,前驱体会发生热分解或与反应室中的其他气体发生反应。

这种反应会将前驱体分解为原子和分子,从而为沉积做好准备。

3.非挥发性反应产物的沉积

分解或反应产生的原子和分子会沉积到加热的基底上。

这种沉积会形成一层薄膜或涂层,随着时间的推移均匀地堆积起来。

反应的非挥发性产物附着在基底上,而未反应的前驱物和副产物则被清除出反应室。

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