技术团队 · Kintek Solution

化学气相沉积（CVD）是一种通过气态前驱体的化学反应在基底上沉积薄膜或涂层的工艺。CVD 的原理包括三个主要步骤：挥发性化合物的蒸发、蒸气在基底上的热分解或化学反应以及非挥发性反应产物的沉积。这一过程通常需要高温和特定的压力范围，以促进反应并确保涂层均匀。

答案摘要：

CVD 的原理是使用挥发性前驱体在真空室中加热和反应，在基底上形成一层固态薄膜。该过程有三个关键步骤：前驱体蒸发、基底表面的化学反应和所得材料的沉积。

1. 详细说明：挥发性化合物的蒸发：

2. 第一步，蒸发挥发性前驱体，即要沉积物质的化合物。这种前驱体通常是一种卤化物或氢化物，可根据基底上所需沉积的材料进行选择。蒸发过程为后续反应准备了前驱体。

3. 热分解或化学反应：

一旦前驱体处于气态，就会被引入反应室，并在其中经历高温（通常在 1000°C 左右）。在这种温度下，前驱体会发生热分解或与反应室中的其他气体发生反应。这种反应会将前驱体分解成原子和分子，以便进行沉积。非挥发性反应产物的沉积：