更新于 3个月前
溅射是一种物理气相沉积（PVD）技术。
它是将原子或分子从目标材料中喷射出来。
这种喷射是通过高能粒子轰击实现的。
然后，这些粒子在基底上凝结成薄膜。
这种工艺广泛用于在各种基底上沉积包括铝在内的金属薄膜。
沉积室包含一个装有铝等目标材料的溅射枪。
靶材后面的强力磁铁会产生一个磁场。
该磁场对溅射过程至关重要。
氩气被引入腔室。
这种惰性气体是避免与靶材发生化学反应的首选气体。
高压直流电源应用于阴极。
阴极容纳溅射枪和靶材。
这种初始功率提升可清洁靶材和基底。
来自电离氩的高能正离子轰击靶材。
这些离子喷射出的粒子穿过腔室。
喷射出的粒子以薄膜的形式沉积在基底上。
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