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薄膜沉积的化学方法称为化学气相沉积（CVD）。在化学气相沉积法中，将基底放入真空室，加热两种化学前驱体，使其气化。当这些气化的前驱体在基底表面相遇时，就会发生化学反应，形成薄膜涂层。CVD 是一种广泛用于制造具有特定材料特性的高性能薄膜的技术。它常用于半导体制造和其他需要精确控制薄膜成分和厚度的行业。
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