知识 什么是薄膜沉积的化学方法?需要了解的 5 个要点
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

什么是薄膜沉积的化学方法?需要了解的 5 个要点

薄膜沉积的化学方法称为化学气相沉积(CVD)。

在化学气相沉积法中,基片被放入真空室中。

加热两种化学前驱体,使其气化。

当这些气化的前驱体在基底表面相遇时,就会发生化学反应。

反应的结果是形成薄膜涂层。

CVD 是一种广泛用于制造具有特定材料特性的高性能薄膜的技术。

它常用于半导体制造和其他需要精确控制薄膜成分和厚度的行业。

什么是薄膜沉积的化学方法?需要了解的 5 个要点

什么是薄膜沉积的化学方法?需要了解的 5 个要点

1.化学气相沉积(CVD)

CVD 是用于薄膜沉积的化学方法。

2.基底放置

在此过程中,基底被放置在真空室中。

3.加热和气化

加热两种化学前体,使其汽化。

4.化学反应

当这些气化的前驱体在基底表面相遇时,就会发生化学反应。

5.形成薄膜

这种反应会形成薄膜涂层。

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