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薄膜沉积的化学方法称为化学气相沉积（CVD）。
在化学气相沉积法中，基片被放入真空室中。
加热两种化学前驱体，使其气化。
当这些气化的前驱体在基底表面相遇时，就会发生化学反应。
反应的结果是形成薄膜涂层。
CVD 是一种广泛用于制造具有特定材料特性的高性能薄膜的技术。
它常用于半导体制造和其他需要精确控制薄膜成分和厚度的行业。
CVD 是用于薄膜沉积的化学方法。
在此过程中，基底被放置在真空室中。
加热两种化学前体，使其汽化。
当这些气化的前驱体在基底表面相遇时，就会发生化学反应。
这种反应会形成薄膜涂层。
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