离子束沉积（IBD）是一种高度精确的薄膜沉积方法。
它适用于需要严格控制薄膜厚度和化学计量的情况。
该工艺包括使用离子源溅射目标。
然后，溅射材料沉积到基底上。
该工艺中使用的离子具有相同的能量。
这就形成了单能量和高度准直的沉积。
5 个关键步骤说明
1.离子源与目标相互作用
在 IBD 系统中，离子源产生一束聚焦在目标材料上的离子束。
离子的能量会导致目标材料中的原子或分子被射出（溅射）。
由于离子束的均匀性和能量，这种溅射过程是可控和精确的。
2.沉积到基底上
然后将靶材溅射出的材料沉积到基底上。
基底可直接接收溅射粒子。
沉积过程形成的薄膜层与基底表面紧密结合。
3.利用离子辅助沉积 (IAD) 加强控制
为了进一步加强沉积的控制和质量，可在沉积过程中将第二个网格离子源对准基底。
这种被称为离子辅助沉积的技术有助于获得高精度的高质量薄膜。
离子辅助沉积既可用于溅射工艺，也可用于热蒸发工艺。
它在高真空环境中尤其有效，可减少散射并提高薄膜质量。
4.离子镀和高能粒子轰击
离子镀是 IBD 的另一个方面，即沉积薄膜同时或周期性地受到高能粒子轰击。
这种轰击可以改变和控制沉积膜的成分和特性。
它能提高表面覆盖率和附着力。
使用的高能粒子通常是惰性气体或活性气体的离子或沉积材料本身的离子。
5.临界离子-固体相互作用
离子束与目标材料之间的相互作用对 IBD 的成功至关重要。
这些相互作用包括植入、溅射和散射。
每种作用都会对沉积过程和最终薄膜的特性产生影响。
优点和应用
IBD 的价值在于它能够生成高密度结构，并具有出色的附着力、更高的纯度、更少的缺陷和理想的目标成分。
高度准直的离子束可独立控制薄膜的化学计量和厚度。
这使其成为需要高质量、精确设计薄膜的行业的重要工艺。
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