知识 什么是离子束溅射工艺?(解释四个关键步骤)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

什么是离子束溅射工艺?(解释四个关键步骤)

离子束溅射是一种用于制造薄膜的方法。它使用一种称为离子源的特殊工具,向目标材料发射称为离子的微小颗粒。这些离子击落目标材料的碎片,然后落在表面上形成薄膜。这一过程可形成非常致密和高质量的薄膜。

离子束溅射的过程是怎样的?(4 个关键步骤说明)

什么是离子束溅射工艺?(解释四个关键步骤)

1.产生离子束

离子源产生一束离子。这些离子通常由氩气等惰性气体制成。它们都具有相同的能级,以笔直、狭窄的路径行进。

2.离子撞击目标

离子束对准目标材料,目标材料可以是金属或电介质。高能离子撞击目标后,由于能量传递,原子或分子会被击落。

3.沉积到基底上

从靶上击落的材料穿过真空,落在基底上。这就在基底表面形成了一层薄膜。

4.控制和精度

离子束的能量和方向可以精确控制。这样就能形成非常均匀和致密的薄膜,这对于高精度应用非常重要。

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