知识 什么是纳米技术中的溅射工艺?了解的 4 个关键步骤
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

什么是纳米技术中的溅射工艺?了解的 4 个关键步骤

溅射是一种用于纳米技术的物理气相沉积技术。

它有助于将材料薄膜沉积到被称为基底的表面上。

这一过程包括用等离子体中的高能离子轰击目标材料。

这些离子会将原子或原子团射出并沉积到基底上,形成薄膜。

了解溅射过程的 4 个关键步骤

什么是纳米技术中的溅射工艺?了解的 4 个关键步骤

1.等离子体的产生

溅射过程首先要产生气态等离子体,这是一种由带电粒子组成的物质状态。

在溅射系统中,氩气等气体被电离以产生等离子体。

这通常是通过放电来实现的,放电会从气体原子中剥离电子。

结果产生了由带正电的离子和自由电子组成的等离子体。

2.离子加速

然后将等离子体中的离子加速到目标材料。

等离子体中带正电的离子被施加在目标材料上的负电位吸引。

这种加速给离子带来高动能。

3.材料抛射

当高能离子与目标材料碰撞时,它们会将能量传递给目标原子。

这种能量转移足以克服靶原子的结合能。

因此,它们被从表面喷射出来。这一过程被称为溅射。

4.沉积到基底上

喷射出的原子或分子在真空中直线运动。

它们可以沉积到附近的基底上。

这种沉积会在基底上形成一层目标材料薄膜。

这层薄膜的特性,如厚度、均匀性和附着力,可以通过调整溅射参数来控制。

这些参数包括应用于等离子体的功率、气体压力以及靶材与基底之间的距离。

溅射技术广泛应用于光学镀膜、半导体器件和纳米技术产品的制造。

它能够在相对较低的温度下沉积精确的薄层材料,因而备受推崇。

该技术用途广泛,可在不同基底上沉积各种材料,包括金属、氧化物和合金。

这使其成为现代技术和研究中的关键工艺。

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