知识 蒸发技术中使用哪些材料?薄膜沉积材料指南
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 1 周前

蒸发技术中使用哪些材料?薄膜沉积材料指南


蒸发技术中使用的材料主要分为两大类:作为薄膜沉积的源材料,例如铝和银等纯金属;以及用于构建设备本身的高温部件的专业耐火材料,例如钨或钼。整个过程在一个不锈钢真空室内进行。

热蒸发中的关键区别在于蒸发源材料(您要沉积的材料)和设备(容纳它的坩埚和腔室)。每种材料所需的特性——一种设计用于轻松汽化,另一种设计用于承受极高温度——从根本上是不同的。

蒸发系统的核心组件

要了解所涉及的材料,我们必须首先看看使该过程成为可能的设备。选择每个组件都是基于其在真空和高温条件下运行的能力。

真空室

该过程在高度真空环境下进行,以确保沉积薄膜的纯度。这些腔室通常由不锈钢制成,因为其耐用性、低反应性和维持真空的能力。

加热源(坩埚或舟)

待沉积的材料(蒸发源材料)被放置在一个容器中,通常称为舟或坩埚,通过加热使其蒸发。

这些坩埚必须由耐火材料制成,这些材料具有极高的熔点和低蒸汽压。常见的选择包括。这确保了舟本身不会蒸发并污染薄膜。

能源

加热是通过强大的能源实现的。这可以是一个电阻加热器,它向坩埚中通入大电流;或者一个电子束枪,它向蒸发源材料发射一束聚焦的电子束。

蒸发技术中使用哪些材料?薄膜沉积材料指南

可以沉积的材料(蒸发源材料)

“蒸发源材料”是转化为蒸汽并沉积到基底上形成薄膜的源材料。可以使用的材料种类繁多,具体取决于最终薄膜所需的特性。

纯原子元素

由于金属优异的导电性和反射性,它们是通过热蒸发沉积的最常见的材料类别。

常见示例包括:

  • 铝 (Al)
  • 银 (Ag)
  • 镍 (Ni)
  • 铬 (Cr)
  • 镁 (Mg)

分子和化合物

该技术不仅限于纯元素。某些分子也可以被蒸发,尽管该过程需要更仔细的控制以防止它们分解。

这些可能包括电介质和其他功能材料,如氧化物氮化物

应避免的常见误区

一个常见的混淆点在于“蒸发”一词在不同的科学背景下有不同的含义。理解这种区别对于选择正确的材料和过程至关重要。

热蒸发与旋转蒸发

如本文所述的热蒸发是一种在真空中沉积固体薄膜的材料科学技术。它涉及金属和耐火舟。

另一方面,旋转蒸发是一种化学实验室技术,用于温和地去除液体样品中的溶剂。它使用不同的设备,包括玻璃烧瓶冷凝器(通常使用乙二醇)和真空泵,但其目的和材料与薄膜沉积完全不同。

为您的目标做出正确的选择

您的材料选择完全取决于您的最终目标。

  • 如果您的主要重点是制造导电金属薄膜: 您将使用铝或银等蒸发源材料,它们将在由钨制成的高温坩埚中加热。
  • 如果您的主要重点是沉积电介质层: 您可能会使用金属氧化物等材料,这需要精确控制加热过程,以确保化合物在不分解的情况下蒸发。
  • 如果您的主要重点是纯化化学样品: 您需要的是旋转蒸发,它涉及玻璃器皿和液体溶剂,而不是金属沉积过程。

最终,选择正确的材料始于明确定义您的应用并理解每种材料在此过程中所扮演的不同角色。

总结表:

组件 材料示例 主要功能
蒸发源材料(沉积薄膜) 铝 (Al)、银 (Ag)、镍 (Ni) 在基底上形成导电或功能性薄膜
坩埚/舟 钨 (W)、钼 (Mo) 容纳并加热蒸发源材料,同时不污染薄膜
真空室 不锈钢 为该过程提供高真空、高温环境

准备好为您的薄膜沉积项目选择最合适的材料了吗?

KINTEK 专注于用于蒸发技术的高质量实验室设备和耗材。我们提供耐用的耐火部件和纯净的蒸发源材料,以实现可靠、无污染的结果。我们的专家可以帮助您选择正确的设备来沉积导电金属或精细化合物。

立即联系我们的团队,讨论您的具体应用并确保您的实验室达到最佳性能。

图解指南

蒸发技术中使用哪些材料?薄膜沉积材料指南 图解指南

相关产品

大家还在问

相关产品

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚,具有高温和热循环性能。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

CVD 钻石穹顶

CVD 钻石穹顶

CVD 钻石球顶是高性能扬声器的终极解决方案。这些圆顶采用直流电弧等离子喷射技术制造,具有卓越的音质、耐用性和功率处理能力。

有机物质的蒸发坩埚

有机物质的蒸发坩埚

有机物蒸发坩埚,简称蒸发坩埚,是一种在实验室环境中蒸发有机溶剂的容器。

真空层压机

真空层压机

使用真空层压机,体验干净、精确的层压。非常适合晶圆键合、薄膜转换和 LCP 层压。立即订购!

50 升加热冷却循环器 高温和低温恒温反应槽

50 升加热冷却循环器 高温和低温恒温反应槽

使用 KinTek KCBH 50L 加热制冷循环器,体验多功能加热、制冷和循环功能。它是实验室和工业环境的理想选择,性能高效可靠。

高纯度钛箔/钛板

高纯度钛箔/钛板

钛的化学性质稳定,密度为 4.51 克/立方厘米,高于铝,低于钢、铜和镍,但其比强度在金属中排名第一。

半导体和医疗晶圆加工的多功能PTFE解决方案

半导体和医疗晶圆加工的多功能PTFE解决方案

本产品是一款PTFE(特氟龙)晶圆清洗篮,专为各行业中的关键应用而设计。

六角氮化硼 (HBN) 陶瓷环

六角氮化硼 (HBN) 陶瓷环

氮化硼陶瓷(BN)环通常用于高温应用,如熔炉夹具、热交换器和半导体加工。

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉为立式或卧式结构,适用于在高真空和高温条件下对金属材料进行退火、钎焊、烧结和脱气处理。它也适用于石英材料的脱羟处理。

小型真空钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉是专为大学和科研机构设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用数控焊接外壳和真空管路,可确保无泄漏运行。快速连接的电气接头便于搬迁和调试,标准电气控制柜操作安全方便。

20 升加热冷却循环器 高温和低温恒温反应槽

20 升加热冷却循环器 高温和低温恒温反应槽

使用 KinTek KCBH 20L 加热制冷循环器可最大限度地提高实验室生产率。它采用一体化设计,具有可靠的加热、冷却和循环功能,适合工业和实验室使用。

30 升加热冷却循环器 高温和低温恒温反应槽

30 升加热冷却循环器 高温和低温恒温反应槽

使用 KinTek KCBH 30L 加热制冷循环器可获得多功能实验室性能。它的最高加热温度为 200℃,最高冷却温度为 -80℃,非常适合工业需求。

实验室用 ITO/FTO 导电玻璃清洁花篮

实验室用 ITO/FTO 导电玻璃清洁花篮

聚四氟乙烯清洁架主要由四氟乙烯制成。被称为 "塑料之王 "的聚四氟乙烯是一种由四氟乙烯制成的高分子化合物。

台式快速高压灭菌器 35L / 50L / 90L

台式快速高压灭菌器 35L / 50L / 90L

台式快速蒸汽灭菌器结构紧凑、性能可靠,可用于医疗、制药和研究物品的快速灭菌。它能有效地消毒手术器械、玻璃器皿、药品和抗性材料,适用于各种应用场合。

CaF2 基质/窗口/透镜

CaF2 基质/窗口/透镜

CaF2 窗口是一种由结晶氟化钙制成的光学窗口。这种窗口用途广泛,对环境稳定,抗激光损伤,在 200 纳米到约 7 μm 范围内具有稳定的高透射率。

卧式高压蒸汽灭菌器

卧式高压蒸汽灭菌器

卧式高压蒸汽灭菌器采用重力置换法排除内腔冷空气,使内腔蒸汽和冷空气含量更少,灭菌更可靠。

台式快速高压灭菌器 16L / 24L

台式快速高压灭菌器 16L / 24L

台式快速蒸汽灭菌器结构紧凑、性能可靠,可用于医疗、制药和研究物品的快速灭菌。

用于高真空系统的 304/316 不锈钢真空球阀/截止阀

用于高真空系统的 304/316 不锈钢真空球阀/截止阀

了解 304/316 不锈钢真空球阀,高真空系统的理想选择,确保精确控制和经久耐用。立即探索!

实验室和工业用循环水真空泵

实验室和工业用循环水真空泵

实验室用高效循环水真空泵 - 无油、耐腐蚀、运行安静。多种型号可选。立即购买!


留下您的留言