在测量薄膜厚度时，有一种技术脱颖而出：光谱椭偏仪。
以下哪种测量技术常用于测量薄膜厚度？(探究 4 种关键方法）
1.光谱椭偏仪
光谱椭偏仪是一种非破坏性和非接触式方法。
它可以测量透明和半透明单层和多层薄膜的厚度。
这种方法广泛应用于电子和半导体等行业。
它可以同时测量薄膜厚度和折射率、消光系数等光学特性。
光谱椭偏仪适用的厚度范围在 1 纳米到 1000 纳米之间。
然而，它可能无法精确测量光学领域使用的透明基底上的薄膜厚度。
2.测针轮廓仪
测针轮廓仪是另一种可用于薄膜厚度机械测量的技术。
它要求薄膜表面有凹槽或台阶。
3.干涉测量法
干涉测量法也是一种可用于测量薄膜厚度的方法。
与测针轮廓仪一样，它需要特定的表面特征才能有效工作。
4.其他技术
对于涉及光学中使用的透明基底的应用，可以探索其他方法，如 XRR、横截面 SEM 和横截面 TEM。
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通过计算薄膜的折射率，我们的非破坏性和非接触式方法深受电子和半导体行业的信赖。
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