更新于 3个月前
通常用于测量薄膜厚度的技术是光谱椭偏仪。光谱椭偏仪是一种非破坏性和非接触式方法，可以测量透明和半透明单层和多层薄膜的厚度。它广泛应用于电子和半导体等行业。这种方法可同时测量薄膜厚度和光学特性，如折射率和消光系数。光谱椭偏仪适用的厚度范围在 1 纳米到 1000 纳米之间。但是，它可能无法准确测量光学领域中基于透明基底的薄膜厚度。其他技术，如测针轮廓仪和干涉测量法，也可用于薄膜厚度的机械测量，但它们需要在薄膜表面设置凹槽或台阶。在选择薄膜厚度测量技术时，必须考虑材料的透明度、所需的附加信息和预算等因素。
您在寻找可靠、精确的薄膜测量技术吗？KINTEK 是您的最佳选择！我们的光谱椭偏仪是测量透明和半透明单层和多层薄膜（厚度范围为 1nm 至 1000nm）的理想之选。通过计算薄膜的折射率，我们的非破坏性和非接触式方法深受电子和半导体行业的信赖。对于涉及光学中使用的透明基底的应用，请了解我们的其他方法，如 XRR、横截面 SEM 和横截面 TEM。选择 KINTEK 进行精确的薄膜测量 - 立即联系我们！
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
使用真空层压机，体验干净、精确的层压。非常适合晶圆键合、薄膜转换和 LCP 层压。立即订购！
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
钠钙玻璃作为薄膜/厚膜沉积的绝缘基板广受欢迎，它是通过将熔融玻璃浮在熔融锡上制成的。这种方法可确保厚度均匀，表面特别平整。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
硅（Si）被广泛认为是近红外（NIR）范围（约 1 μm 至 6 μm）应用中最耐用的矿物和光学材料之一。
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
这种基板由蓝宝石制成，具有无与伦比的化学、光学和物理特性。其卓越的抗热震性、耐高温性、耐砂蚀性和耐水性使其与众不同。
光学玻璃虽然与其他类型的玻璃有许多共同特征，但在制造过程中使用了特定的化学物质，从而增强了光学应用的关键特性。
钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能，常用于电子束蒸发工艺。
探索光学玻璃板在电信、天文等领域精确操纵光线的强大功能。用超凡的清晰度和定制的折射特性开启光学技术的进步。
Optics 硫化锌 (ZnS) 窗具有出色的红外传输性能，传输范围在 8-14 微米之间。具有出色的机械强度和化学惰性，适用于恶劣环境（比硒化锌窗更硬）。
PI 聚酰亚胺胶带，一般为棕色，又称金手指胶带，耐高温 280℃，防止热封对软包电池片胶的影响，适用于软包电池片位置胶合。
了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备，这是一种微波等离子体化学气相沉积方法，用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。
高导热薄膜石墨化炉温度均匀，能耗低，可连续运行。
石英板是一种透明、耐用的多功能部件，广泛应用于各行各业。它由高纯度石英晶体制成，具有出色的耐热性和耐化学性。
硒化锌是由锌蒸汽与 H2Se 气体合成的，在石墨吸附器上形成片状沉积物。
使用我们的铂盘电极升级您的电化学实验。质量可靠，结果准确。
