CVD 和 PECVD 炉
化学气相沉积CVD设备系统腔体滑动PECVD管式炉带液体气化器PECVD设备
货号 : KT-PE12
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1200 ℃
- 恒定工作温度
- 1100 ℃
- 炉管直径
- 60 mm
- 加热区长度
- 1x450 mm
- 升温速率
- 0-20 ℃/min
- 滑动距离
- 600mm
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简介
带液体气化器的滑动PECVD管式炉PECVD设备是一款多功能、高性能的系统，专为广泛的薄膜沉积应用而设计。它配备了500W射频等离子体源、滑动炉体、精确的气体流量控制和真空站。该系统具有自动等离子体匹配、高速加热和冷却、可编程温度控制以及用户友好的界面等优点。它广泛应用于研究和生产环境中，用于电子、半导体和光学等各个行业的薄膜沉积。
应用
带液体气化器的滑动PECVD管式炉PECVD设备的应用包括：
- 化学气相沉积 (CVD)
- 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
- 薄膜沉积
- 太阳能电池制造
- 半导体加工
- 纳米技术
- 材料科学
- 研发
提供不同的温度和设置的CVD系统
原理
带液体气化器的滑动PECVD管式炉PECVD设备利用低温等离子体在工艺腔体的阴极（样品托盘）中产生辉光放电。辉光放电（或其他热源）将样品温度升高到预定水平。然后，引入控制量的工艺气体，通过化学反应和等离子体反应在样品表面形成固体薄膜。
特点
带液体气化器的滑动PECVD管式炉PECVD设备为用户提供了诸多优势：
- 提高太阳能电池晶圆的功率输出：创新的石墨舟结构显著提高了太阳能电池的功率输出。
- 消除管式PECVD电池的色差：该设备有效解决了管式PECVD电池的色差问题。
- 宽输出功率范围（5-500W）：射频等离子体自动匹配源提供多样的输出功率范围，确保各种应用的最佳性能。
- 高速加热和冷却：炉腔滑动系统可实现快速加热和冷却，缩短加工时间。辅助强制风循环进一步加快了冷却速度。
- 自动滑动移动：可选的滑动移动功能支持自动操作，提高效率并减少手动干预。
- 精确的温度控制：PID可编程温度控制确保精确的温度调节，支持远程和集中控制，更加便捷。
- 高精度MFC质量流量计控制：MFC质量流量计精确控制源气体，确保稳定一致的气体供应。
- 多功能真空站：带多个适配接口的不锈钢真空法兰可适应各种真空泵站配置，确保高真空度。
- 用户友好的界面：CTF Pro 7英寸TFT触摸屏控制器简化了程序设置，并便于分析历史数据。
优势
- 射频等离子体自动匹配源，宽5-500W输出功率范围，输出稳定
- 炉腔滑动系统，实现快速加热和短时冷却，提供辅助快速冷却和自动滑动移动
- PID可编程温度控制，控制精度高，支持远程控制和集中控制
- 高精度MFC质量流量计控制，源气体预混合和稳定的气体供应速度
- 不锈钢真空法兰带各种适配接口，满足不同的真空泵站设置，密封性好，真空度高
- CTF Pro采用一个7英寸TFT触摸屏控制器，更友好的程序设置和历史数据分析
安全优势
- Kindle Tech管式炉具有过流保护和超温报警功能，炉体将自动断电
- 炉体内置热电偶检测功能，一旦检测到断裂或故障，炉体将停止加热并发出警报
- PE Pro支持断电重启功能，来电后炉体将恢复加热程序
技术规格
| 炉体型号 | KT-PE12-60 |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 恒温工作温度 | 1100℃ |
| 炉管材质 | 高纯石英 |
| 炉管直径 | 60mm |
| 加热区长度 | 1x450mm |
| 腔体材质 | 日本氧化铝纤维 |
| 加热元件 | Cr2Al2Mo2丝圈 |
| 加热速率 | 0-20℃/min |
| 热电偶 | 内置K型 |
| 温度控制器 | 数字PID控制器/触摸屏PID控制器 |
| 温度控制精度 | ±1℃ |
| 滑动距离 | 600mm |
| 射频等离子体单元 | |
| 输出功率 | 5 -500W可调，稳定性±1% |
| 射频频率 | 13.56 MHz ±0.005%稳定性 |
| 反射功率 | 最大350W |
| 匹配 | 自动 |
| 噪音 | <50 dB |
| 冷却 | 风冷。 |
| 气体精确控制单元 | |
| 流量计 | MFC质量流量计 |
| 气体通道 | 4通道 |
| 流量 | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCCM CH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| 线性度 | ±0.5% F.S. |
| 重复性 | ±0.2% F.S. |
| 管道和阀门 | 不锈钢 |
| 最大工作压力 | 0.45MPa |
| 流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
| 标准真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片真空泵 |
| 泵流量 | 4L/S |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空计 | Pirani/电阻硅真空计 |
| 额定真空压力 | 10Pa |
| 高真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
| 泵流量 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空计 | 复合真空计 |
| 额定真空压力 | 6x10-4Pa |
| 以上规格和设置均可定制 | |
标准包装
| 编号 | 描述 | 数量 |
| 1 | 炉体 | 1 |
| 2 | 石英管 | 1 |
| 3 | 真空法兰 | 2 |
| 4 | 管式热块 | 2 |
| 5 | 管式热块挂钩 | 1 |
| 6 | 耐热手套 | 1 |
| 7 | 射频等离子体源 | 1 |
| 8 | 精确气体控制 | 1 |
| 9 | 真空单元 | 1 |
| 10 | 操作手册 | 1 |
可选配置
- 管内气体检测和监测，如H2、O2等
- 独立的炉体温度监测和记录
- RS 485通信端口，用于PC远程控制和数据导出
- 插入气体进气流量控制，如质量流量计和浮子流量计
- 带多功能操作友好型功能的触摸屏温度控制器
- 高真空泵站配置，如旋片真空泵、分子泵、扩散泵
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
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FAQ
什么是 PECVD 方法？
什么是 Mpcvd？
PECVD 有哪些用途？
什么是 MPCVD 设备？
PECVD 有哪些优势？
Mpcvd 有哪些优势？
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
CVD 钻石是真的还是假的？
PECVD 和溅射有什么区别？
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