
CVD 和 PECVD 炉
带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备
货号 : KT-PE12
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1200 ℃
- 恒定工作温度
- 1100 ℃
- 炉管直径
- 60 毫米
- 加热区长度
- 1x450 毫米
- 加热速率
- 0-20 ℃/min
- 滑动距离
- 600 毫米

运输:
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应用
KT-PE12 带液体气化器的滑动 PECVD 系统由一个 500W 射频等离子源、一个 TF-1200 滑动炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉腔轨道滑动系统,可实现快速加热和快速冷却,可选配辅助强制空气循环风扇,加快冷却速度;可选配滑动自动工作装置;最高工作温度可达 1200℃。工作温度最高可达 1200℃,炉管为一根直径 60 毫米的石英管;4 通道 MFC 质量流量计,气源为 CH4、H2、O2 和 N2;真空站为一台 4L/S 旋片真空泵,最大真空压力可达 10P。真空压力可达 10Pa。
优势
- 射频等离子体自动匹配源,5-500W 宽输出功率范围,输出稳定
- 高速加热和短时间冷却的炉腔滑动系统,可提供辅助快速冷却和自动滑动功能
- PID 可编程温度控制,控制精度高,支持远程控制和集中控制
- 高精度 MFC 质量流量计控制,源气预混,供气速度稳定
- 不锈钢真空法兰,多种适配接口,满足不同真空泵站设置,密封性好,真空度高
- CTF Pro 采用一个 7 英寸 TFT 触摸屏控制器,程序设置和历史数据分析更友好
提供不同温度和设置的 CVD 系统




安全优势
- Kindle Tech 管式炉具有过流保护和过温报警功能,炉子会自动关闭电源
- 管式炉内置热耦合检测功能,一旦检测到破损或故障,管式炉将停止加热并报警
- PE Pro 支持断电重启功能,故障后接通电源时,窑炉将恢复窑炉加热程序
技术规格
炉子型号 | KT-PE12-60 |
最高温度 | 1200℃ |
恒定工作温度 | 1100℃ |
炉管材料 | 高纯度石英 |
炉管直径 | 60 毫米 |
加热区长度 | 1x450 毫米 |
炉腔材料 | 日本氧化铝纤维 |
加热元件 | Cr2Al2Mo2 金属丝线圈 |
加热速率 | 0-20℃/min |
热电偶 | 内置 K 型 |
温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
温度控制精确度 | ±1℃ |
滑动距离 | 600 毫米 |
射频等离子装置 | |
输出功率 | 5 -500W 可调,稳定性为 ± 1% |
射频频率 | 13.56 MHz ±0.005% 稳定度 |
反射功率 | 最大 350W |
匹配 | 自动 |
噪音 | <50 分贝 |
冷却 | 空气冷却 |
气体精确控制装置 | |
流量计 | MFC 质量流量计 |
气体通道 | 4 个通道 |
流量 | MFC1: 0-5SCCM O2 mfc2: 0-20scmch4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500 sccm n2 |
线性度 | ±0.5% F.S. |
重复性 | ±0.2% F.S. |
管路和阀门 | 不锈钢 |
最大工作压力 | 0.45 兆帕 |
流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
标准真空装置(可选) | |
真空泵 | 旋片式真空泵 |
泵流量 | 4 升/秒 |
真空吸入口 | KF25 |
真空规 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
额定真空压力 | 10Pa |
高真空单元(可选) | |
真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
泵流量 | 4L/S+110L/S |
真空吸入口 | KF25 |
真空规 | 复合真空计 |
额定真空压力 | 6x10-4Pa |
以上规格和设置可定制 |
标准包装
编号 | 说明 | 数量 |
1 | 熔炉 | 1 |
2 | 石英管 | 1 |
3 | 真空法兰 | 2 |
4 | 导管隔热块 | 2 |
5 | 导管隔热块挂钩 | 1 |
6 | 耐热手套 | 1 |
7 | 射频等离子源 | 1 |
8 | 精确气体控制 | 1 |
9 | 真空装置 | 1 |
10 | 操作手册 | 1 |
可选设置
- 管内气体检测和监控,如 H2、O2 等
- 独立炉温监控和记录
- RS 485 通信端口,用于 PC 远程控制和数据输出
- 插入式气体进料流量控制,如质量流量计和浮子流量计
- 触摸屏温度控制器,具有方便操作的多种功能
- 高真空泵站设置,如叶片真空泵、分子泵和扩散泵
警告
操作员安全是最重要的问题! 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的,操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的,操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时,尤其是在真空下,也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
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FAQ
什么是 PECVD 方法?
什么是 Mpcvd?
PECVD 有哪些用途?
什么是 MPCVD 设备?
PECVD 有哪些优势?
Mpcvd 有哪些优势?
ALD 和 PECVD 的区别是什么?
CVD 钻石是真的还是假的?
PECVD 和溅射有什么区别?
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