产品 热能设备 MPCVD 915MHz MPCVD金刚石设备 微波等离子体化学气相沉积系统反应器
915MHz MPCVD金刚石设备 微波等离子体化学气相沉积系统反应器

MPCVD

915MHz MPCVD金刚石设备 微波等离子体化学气相沉积系统反应器

货号 : MP-CVD-101

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介绍

MPCVD金刚石设备是一项革命性技术,它利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)来合成金刚石。与传统技术相比,这种先进的方法能够实现更快的晶体生长速度、更高的生产能力和更高的金刚石质量。

MPCVD金刚石设备能够精确控制微波功率和反应温度,从而解决了其他CVD方法所面临的问题。通过优化反应室设计和工艺参数,它实现了稳定的等离子体放电,这对于生产高质量、大尺寸的单晶金刚石至关重要。

MPCVD金刚石设备的多功能性还体现在其能够制造各种颜色的金刚石,包括白色、黄色、粉色和蓝色。此外,它还提供可定制的生产,以满足特定的市场需求。

应用

由于金刚石具有硬度高、刚性好、导热性高、热膨胀系数低、耐辐射和化学惰性等独特性能,MPCVD金刚石设备被广泛应用于各个行业。以下是MPCVD金刚石设备的主要应用领域:

  • 金刚石宝石:MPCVD是生长高质量、大尺寸金刚石宝石的主要设备。
  • 金刚石薄膜:MPCVD用于生长各种应用的金刚石薄膜,包括用于半导体行业的大尺寸金刚石衬底以及金刚石切割或钻孔工具。
  • 工业应用:MPCVD用于为刀具、钻头和其他需要极高硬度和耐用性的工业应用生产金刚石涂层。
  • 生物医学应用:MPCVD用于为医疗植入物(如人工关节和牙科植入物)生产金刚石涂层,这些植入物需要生物相容性和耐用性。
  • 光电子学:MPCVD用于为光电子器件(如大功率激光器和探测器)生产金刚石窗口和衬底,这些器件需要高导热性和低热膨胀系数。

详细信息与部件

MPCVD 详细信息

MPCVD 详细信息

原理

微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是一种化学气相沉积工艺,它利用连续的微波源产生并维持由反应化学物质和关键催化剂组成的高度活性的等离子体。MPCVD广泛用于沉积金刚石薄膜——将甲烷和氢气引入并用于在有金刚石籽晶的衬底上培养新的金刚石。

特点

MPCVD金刚石设备具有多项优势,为客户带来益处:

  • 更快的晶体生长速度:比传统方法快10-100倍,从而提高生产效率。
  • 更高的生产能力:单次批次可实现更高的生产能力,从而实现更大规模的金刚石合成。
  • 更高的质量性能:生产的金刚石比天然金刚石具有更高的硬度和韧性,确保了耐用性和寿命。
  • 更多样化的颜色:支持生产各种颜色的金刚石,包括白色、黄色、粉色和蓝色,满足多样化的市场需求。
  • 更高的金刚石纯度:生产的金刚石比天然金刚石II型纯度更高,确保了卓越的光学性能和适用于各种应用。
  • 多风格定制:提供可定制的设计,以满足特定的市场要求,为不同行业提供量身定制的解决方案。

技术规格

微波系统(根据可选电源)

  • 工作频率:915±15MHz
  • 输出功率:3-75kW连续可调
  • 冷却水流量:120升/分钟
  • 系统驻波系数:VSWR≤1.5
  • 微波泄漏:<2mw/cm2

真空系统和反应室

  • 泄漏率 < 5×10-9Pa.m3/s
  • 极限压力小于0.7Pa(本机配有进口皮拉尼真空计)
  • 保压12小时后腔体压力升不超过50Pa。
  • 反应室工作模式:TM021或TM023模式
  • 腔体类型:水冷圆柱腔体,可承载高达75KW的功率,高纯度,石环密封。
  • 进气方式:顶部喷淋头进气。
  • 观察测温窗口:8个观察孔,水平均匀分布。
  • 取样口:底部升降取样口

样品台系统

  • 样品台直径≥200mm,单晶有效使用面积≥130mm,多晶有效使用面积≥200mm。衬底平台水冷夹层结构,垂直上下移动。

气体系统

  • 全金属焊接气路板5-7路气体管线
  • 设备内部所有气路均采用焊接或VCR接头。

系统冷却

  • 3路水冷,实时监测温度和流量。
  • 系统冷却水流量120L/min,冷却水压力<4KG,进水温度20-25℃。

测温方式

  • 外置红外测温仪,温度范围300-1400℃

SL901A 设备主要部件清单

序号 模块名称 备注
1 微波电源 标准国产磁控管:英杰电磁/区分电源 国产固态源:华信(+30,000) 进口磁控管:MKS/牧羊人(+100,000)
2 波导、三通、模式转换器、上谐振腔 自制
3 真空反应室(上腔、下腔、连接件) 自制
4 红外测温仪、光学位移组件、支架 红外测温仪、光学位移组件:富士金西门子+施耐德支架
5 水冷台运动组件(气缸、工件等)
6 陶瓷薄膜真空计、皮拉尼真空计 Inficon
7 真空阀组件(超高真空闸阀、精密气动阀*2、电磁充气减压阀) 富士金+中科+HIMAT
8 真空泵及连接管件、三通、KF25波纹管*2、转接头 泵:飞越16L
9 金属微波密封圈*2;金属真空密封圈*1;石英板 石英:上海飞勒华半导体级高纯石英
10 循环水组件(接头、分水块、流量检测器) 日本SMC/CKD
11 气动部分(CKD过滤器、亚德客多通电磁阀、管件接头)
12 气体接头、EP气管、VCR接头、过滤器0.0023μm *1、过滤器10μm*2 富士金
13 机柜、不锈钢台面、万向轮、脚轮、支架紧固螺钉等 定制加工
14 气体流量计*6(含一路压力控制) 标准七星,可选富士金(+34,000)/ Alicat(42,000)
15 气路板加工(5路气路、过滤器*5、气动阀*5、手动阀*6、管线焊接) 富士金
16 PLC自动控制 西门子+施耐德
17 钼台

优点

  • 更快的晶体生长速度 - 比传统方法快10-100倍
  • 更高的生产能力 - 单次批次可实现更高的生产能力
  • 更高的质量性能 - 比天然金刚石具有更高的硬度和韧性
  • 更多样化的颜色 - 白色、黄色、粉色、蓝色等
  • 更高的金刚石纯度 - 比天然金刚石II型更纯
  • 多风格定制可根据不同市场进行定制

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FAQ

什么是 Mpcvd?

MPCVD 是微波等离子体化学气相沉积的缩写,是一种在表面沉积薄膜的工艺。它使用真空室、微波发生器和气体输送系统来产生由反应化学品和必要催化剂组成的等离子体。在 ANFF 网络中,MPCVD 被大量用于利用甲烷和氢气沉积金刚石层,从而在金刚石种子基底上生长出新的金刚石。它是一种生产低成本、高质量大型金刚石的有前途的技术,被广泛应用于半导体和金刚石切割行业。

什么是 MPCVD 设备?

MPCVD(微波等离子体化学气相沉积)机是一种用于生长高质量金刚石薄膜的实验室设备。它使用含碳气体和微波等离子体在金刚石基底上方形成一个等离子球,将其加热到特定温度。等离子球不接触腔壁,使金刚石的生长过程不含杂质,提高了金刚石的质量。MPCVD 系统由一个真空室、一个微波发生器和一个控制气体流入真空室的气体输送系统组成。

Mpcvd 有哪些优势?

与其他钻石生产方法相比,MPCVD 有几个优点,如纯度更高、能耗更低、能生产更大的钻石。

CVD 钻石是真的还是假的?

CVD 钻石是真正的钻石,不是假的。它们是在实验室中通过一种名为化学气相沉积(CVD)的工艺培育而成的。与从地表下开采的天然钻石不同,CVD 钻石是在实验室中利用先进技术制造出来的。这些钻石含有 100% 的碳,是最纯净的钻石,被称为 IIa 类钻石。它们具有与天然钻石相同的光学、热学、物理和化学特性。唯一不同的是,CVD 钻石是在实验室里制造出来的,而不是从地球上开采出来的。
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915MHz MPCVD金刚石设备 微波等离子体化学气相沉积系统反应器

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