更新于 3周前
溅射工艺是一种复杂的技术，用于在各种基底上沉积薄膜。下面详细介绍其中的七个关键步骤：
沉积室的真空压力约为 10-6 托。
它允许更长的平均自由路径，有助于实现更均匀、更平滑的沉积。
将氩气或氙气等惰性气体引入腔室。
3.产生等离子体
放电产生等离子体，由自由电子和正离子组成。
在等离子体中，自由电子与溅射气体的原子碰撞，导致电子与气体原子分离。
5.正离子的加速
在外加电压的作用下，溅射气体中的正离子加速向阴极（带负电的电极）移动。
6.靶腐蚀加速的正离子与靶材碰撞，靶材是涂层材料的来源。这些碰撞导致靶材料中的原子被喷出或溅射掉。7.薄膜沉积溅射的原子穿过真空沉积室，以薄膜的形式沉积在基底表面。
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
了解火花等离子烧结炉在快速、低温材料制备方面的优势。加热均匀、成本低且环保。
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
以合理的价格为您的实验室需求提供高质量的碳化硼材料。我们可定制不同纯度、形状和尺寸的碳化硼材料，包括溅射靶材、涂层、粉末等。
利用我们的真空感应熔炼炉获得精确的合金成分。是航空航天、核能和电子工业的理想之选。立即订购，有效熔炼和铸造金属与合金。
使用我们的真空熔融纺丝系统，轻松开发可蜕变材料。非常适合非晶和微晶材料的研究和实验工作。立即订购，获得有效成果。
介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉，用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。
您正在为您的实验室需求寻找高质量的铅（Pb）材料吗？我们有专门的可定制选择，包括溅射靶材、涂层材料等。现在就联系我们，了解具有竞争力的价格！
您正在寻找用于实验室的高质量锡（Sn）材料吗？我们的专家以合理的价格提供可定制的锡（Sn）材料。立即查看我们的各种规格和尺寸！
了解我们的钨钛合金 (WTi) 实验室材料，价格实惠。我们的专业知识使我们能够生产不同纯度、形状和尺寸的定制材料。您可以从各种溅射靶材、粉末等产品中进行选择。
了解我们根据您的独特需求量身定制的价格合理的铜锆合金材料系列。浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品。
为您的实验室需求提供经济实惠的硫化锌 (ZnS) 材料。我们生产和定制不同纯度、形状和尺寸的 ZnS 材料。有多种溅射靶材、涂层材料、粉末等可供选择。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备，这是一种微波等离子体化学气相沉积方法，用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。
在电子枪光束蒸发中，坩埚是一种容器或源支架，用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。
真空压力烧结炉专为金属和陶瓷烧结中的高温热压应用而设计。其先进的功能可确保精确的温度控制、可靠的压力维持以及无缝操作的坚固设计。
