知识 什么是 CVD 机器?5 大要点解析
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更新于 2个月前

什么是 CVD 机器?5 大要点解析

CVD 机器或化学气相沉积设备是一种专用设备,用于通过气体前驱体之间的化学反应在基底上沉积薄膜或薄膜层。

5 个要点说明

什么是 CVD 机器?5 大要点解析

1.化学气相沉积原理

化学气相沉积(CVD)的工作原理是利用气态或气态物质在气相或气固界面上发生反应,生成固体沉积物。

这种反应通常发生在基底表面,气体分子在此分解或反应形成固态层。

2.CVD 过程

CVD 过程分为三个主要阶段:

扩散和吸附: 反应气体扩散到基底表面并被吸附。

这一步至关重要,因为它决定了气体与基底之间的初始相互作用。

化学反应: 被吸附的气体在基底表面发生化学反应,形成固体沉积物。

这种反应可以是热分解、化学合成或化学传输反应,具体取决于材料和条件。

副产品的释放: 反应的副产品通常以气相形式从基底表面释放,并通过排气系统排出系统。

3.化学气相沉积的特点

沉积物的多样性: CVD 可沉积多种材料,包括金属膜、非金属膜、多组分合金、陶瓷或化合物层。

涂层均匀: 该工艺可在常压或低真空条件下运行,因此能在形状复杂的表面或工件上的深孔或细孔上均匀镀膜。

镀层质量高: CVD 可产生高纯度、致密、低应力和结晶良好的薄膜涂层。

4.CVD 设备的组成部分

气体输送系统: 向反应腔提供前驱气体。

反应腔: 发生沉积的空间。

基底装载机制: 引入和移除基底。

能量源: 为前驱体反应或分解提供必要的热量。

真空系统: 清除反应环境中不需要的气态物质。

排气系统: 清除反应室中的挥发性副产品。

废气处理系统: 处理废气,确保安全排放到大气中。

5.应用和重要性

CVD 广泛应用于包括半导体在内的各行各业,对设备的制造至关重要。

它还用于生产合成金刚石以及硅、碳、氮化物、碳化物和氧化物等其他材料。

CVD 的多功能性和高质量结果使其成为现代制造和材料科学的重要工艺。

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