知识 什么是薄膜涂层?
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

什么是薄膜涂层?

薄膜涂层是一层厚度通常为几纳米到几微米的材料。这些涂层通过各种沉积方法(如溅射、热蒸发或脉冲激光沉积)涂在基底材料上。

薄膜涂层具有广泛的应用和用途。它们可以形成反射表面,如镜子中使用的金属涂层玻璃。这些涂层还可以保护表面免受光线照射,增强传导性或绝缘性,以及开发过滤器。例如,将一层薄薄的铝与玻璃板粘合在一起,就能形成具有反射表面的镜子。

薄膜涂层的特性因所用材料和沉积方法的不同而各异。有些镀膜是透明的,而有些镀膜则是耐久和抗划伤的。这些涂层还可以改变导电性或信号传输。

薄膜沉积方法根据所需厚度、基底表面构成和沉积目的等因素进行选择。沉积方法有两种基本类型:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。物理气相沉积法涉及材料从源到基底的物理转移,而化学气相沉积法涉及气体的化学反应以沉积所需的材料。

总之,薄膜涂层在电子、光学、能源生产、存储和制药等各种行业和技术中发挥着至关重要的作用。薄膜涂层在磁记录介质、半导体器件、光学涂层和薄膜太阳能电池等领域实现了技术突破。

利用 KINTEK 先进的薄膜涂层提高基材的性能!我们的材料种类繁多,包括金属、氧化物和化合物,可满足您的特定需求。无论您需要反射表面、光保护、改善传导或绝缘性能、过滤器或更多,我们在薄膜沉积方面的专业技术都能保证无与伦比的质量和精度,我们采用的是溅射、热蒸发和脉冲激光沉积等尖端方法。使用 KINTEK 的薄膜涂层,让您的基材更上一层楼。立即联系我们,了解更多信息!

相关产品

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

薄层光谱电解槽

薄层光谱电解槽

了解我们的薄层光谱电解槽的优势。耐腐蚀、规格齐全、可根据您的需求定制。

镀铝陶瓷蒸发舟

镀铝陶瓷蒸发舟

用于沉积薄膜的容器;具有铝涂层陶瓷本体,可提高热效率和耐化学性。

用于锂电池包装的铝塑软包装薄膜

用于锂电池包装的铝塑软包装薄膜

铝塑膜具有出色的电解质特性,是软包装锂电池的重要安全材料。与金属壳电池不同,用这种薄膜包裹的袋装电池更加安全。

电池用碳纸

电池用碳纸

薄质子交换膜电阻率低;质子传导率高;氢渗透电流密度低;使用寿命长;适用于氢燃料电池和电化学传感器中的电解质分离器。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌是由锌蒸汽与 H2Se 气体合成的,在石墨吸附器上形成片状沉积物。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

真空层压机

真空层压机

使用真空层压机,体验干净、精确的层压。非常适合晶圆键合、薄膜转换和 LCP 层压。立即订购!

红外线传输涂层蓝宝石片/蓝宝石基板/蓝宝石窗口

红外线传输涂层蓝宝石片/蓝宝石基板/蓝宝石窗口

这种基板由蓝宝石制成,具有无与伦比的化学、光学和物理特性。其卓越的抗热震性、耐高温性、耐砂蚀性和耐水性使其与众不同。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。


留下您的留言