ITO 靶材是氧化铟锡靶材的缩写，是薄膜行业使用的一种溅射靶材。它由氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）的混合物组成，重量比为 90% In2O3 和 10% SnO2。
由于兼具导电性和光学透明性，ITO 是溅射靶材的热门选择。它常用于半导体、光伏和涂层应用以及光学应用。
制造 ITO 靶材有多种方法。其中一种方法是热喷涂旋转靶材，包括等离子、电弧和冷喷涂生产方法。其他制造方法包括铸造、挤压和热等静压（HIP）/烧结。
可旋转靶材，特别是圆柱形靶材，通常用于建筑玻璃和平板显示器的大面积涂层制造。与平面靶材相比，这些靶材有几个优点。它们含有更多的材料，从而延长了生产运行时间，减少了停机时间。热量在表面区域均匀分布，因此可以实现更高的功率密度并提高沉积速度。从而提高了反应溅射过程中的性能。
KINTEK 是一家专门生产高纯度 ITO 靶材的供应商。他们提供各种尺寸的定制圆柱形旋转溅射靶材，直径从 2 英寸到 8.625 英寸不等，长度从几英寸到 160 英寸不等。这些靶材采用 X 射线荧光 (XRF)、辉光放电质谱 (GDMS) 和电感耦合等离子体 (ICP) 等技术进行分析，以确保最高质量。
为实现最佳性能并防止开裂或过热，建议将 ITO 靶材粘合到底板上。KINTEK 采用的复合靶生产方法包括真空热压、热等静压、冷等静压和冷压烧结。根据具体要求，靶材可制成各种形状和尺寸，包括矩形、环形或椭圆形。
总之，ITO 靶材是一种由氧化铟和氧化锡混合物组成的溅射靶材。它用于各种行业的薄膜沉积，具有导电性和光学透明性。ITO 靶材采用不同的方法制造，通常采用可旋转靶材的形式，在材料利用和沉积性能方面比平面靶材更具优势。KINTEK 是一家专业生产各种尺寸和形状的高纯度 ITO 靶材的供应商。
您正在为您的薄膜行业需求寻找高质量的 ITO 靶材吗？KINTEK 是您的最佳选择！我们提供使用旋转靶材制造和复合靶材生产等先进方法制造的各种 ITO 靶材。我们的靶材专为实现最佳性能和耐用性而设计。别忘了查看我们的背板，以确保安全粘接。立即联系我们，获取最好的实验室设备和用品。
