ITO 靶材是氧化铟锡靶材的缩写,是薄膜行业使用的一种溅射靶材。
它由氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)的混合物组成,重量比为 90% In2O3 和 10% SnO2。
由于兼具导电性和光学透明性,ITO 是溅射靶材的热门选择。
它常用于半导体、光伏和涂层应用以及光学应用。
制造 ITO 靶材有多种方法。
其中一种方法是热喷涂旋转靶材,包括等离子、电弧和冷喷涂生产方法。
其他制造方法包括铸造、挤压和热等静压(HIP)/烧结。
可旋转靶材,特别是圆柱形靶材,通常用于建筑玻璃和平板显示器的大面积涂层制造。
与平面靶材相比,这些靶材有几个优点。
它们含有更多的材料,从而延长了生产运行时间,减少了停机时间。
热量在表面区域均匀分布,因此可以实现更高的功率密度并提高沉积速度。
从而提高了反应溅射过程中的性能。
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他们提供各种尺寸的定制圆柱形旋转溅射靶材,直径从 2 英寸到 8.625 英寸不等,长度从几英寸到 160 英寸不等。
这些靶材采用 X 射线荧光 (XRF)、辉光放电质谱 (GDMS) 和电感耦合等离子体 (ICP) 等技术进行分析,以确保最高质量。
为实现最佳性能并防止开裂或过热,建议将 ITO 靶材粘合到底板上。
KINTEK 采用的复合靶生产方法包括真空热压、热等静压、冷等静压和冷压烧结。
根据具体要求,靶材可制成各种形状和尺寸,包括矩形、环形或椭圆形。
总之,ITO 靶材是一种由氧化铟和氧化锡混合物组成的溅射靶材。
它用于各种行业的薄膜沉积,具有导电性和光学透明性。
ITO 靶材采用不同的方法制造,通常采用可旋转靶材的形式,在材料利用和沉积性能方面比平面靶材更具优势。
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