知识 什么是 ITO 目标?您需要了解的 7 个关键事实
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 1个月前

什么是 ITO 目标?您需要了解的 7 个关键事实

ITO 靶材是氧化铟锡靶材的缩写,是薄膜行业使用的一种溅射靶材。

它由氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)的混合物组成,重量比为 90% In2O3 和 10% SnO2。

由于兼具导电性和光学透明性,ITO 是溅射靶材的热门选择。

它常用于半导体、光伏和涂层应用以及光学应用。

制造 ITO 靶材有多种方法。

其中一种方法是热喷涂旋转靶材,包括等离子、电弧和冷喷涂生产方法。

其他制造方法包括铸造、挤压和热等静压(HIP)/烧结。

可旋转靶材,特别是圆柱形靶材,通常用于建筑玻璃和平板显示器的大面积涂层制造。

与平面靶材相比,这些靶材有几个优点。

它们含有更多的材料,从而延长了生产运行时间,减少了停机时间。

热量在表面区域均匀分布,因此可以实现更高的功率密度并提高沉积速度。

从而提高了反应溅射过程中的性能。

KINTEK 是一家专门生产高纯度 ITO 靶材的供应商。

他们提供各种尺寸的定制圆柱形旋转溅射靶材,直径从 2 英寸到 8.625 英寸不等,长度从几英寸到 160 英寸不等。

这些靶材采用 X 射线荧光 (XRF)、辉光放电质谱 (GDMS) 和电感耦合等离子体 (ICP) 等技术进行分析,以确保最高质量。

为实现最佳性能并防止开裂或过热,建议将 ITO 靶材粘合到底板上。

KINTEK 采用的复合靶生产方法包括真空热压、热等静压、冷等静压和冷压烧结。

根据具体要求,靶材可制成各种形状和尺寸,包括矩形、环形或椭圆形。

总之,ITO 靶材是一种由氧化铟和氧化锡混合物组成的溅射靶材。

它用于各种行业的薄膜沉积,具有导电性和光学透明性。

ITO 靶材采用不同的方法制造,通常采用可旋转靶材的形式,在材料利用和沉积性能方面比平面靶材更具优势。

KINTEK 是一家专业生产各种尺寸和形状的高纯度 ITO 靶材的供应商。

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什么是 ITO 目标?您需要了解的 7 个关键事实

您正在为您的薄膜行业需求寻找高质量的 ITO 靶材吗?KINTEK 是您的最佳选择!

我们提供使用旋转靶材制造和复合靶材生产等先进方法制造的各种 ITO 靶材。

我们的靶材专为实现最佳性能和耐用性而设计。

别忘了查看我们的背板,以确保安全粘接。

立即联系我们,获取最好的实验室设备和用品。

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