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物理气相沉积（PVD）是一种用于在各种基底上制造薄膜和涂层的方法。

这些基底可以是金属、陶瓷、玻璃或聚合物。

该工艺将材料从固态或液态转化为气态，然后在表面冷凝成薄膜。

物理气相沉积在许多行业中都有应用，这些应用需要薄膜具有特定的性能，如更好的耐磨性、更高的硬度和更好的外观。

什么是物理气相沉积（PVD）设备？了解的 4 个关键步骤

1.电镀材料的气化

PVD 的第一步是将待镀材料转化为气体。

这可以通过蒸发、溅射或电弧等离子电镀等方法实现。

在蒸发过程中，材料会被加热直至变成蒸汽。

在溅射法中，原子被高能粒子从固体目标材料中击出。

电弧等离子电镀使用大电流电弧使目标材料汽化。

2.将蒸气沉积到基底上一旦材料处于蒸发状态，就会沉积到基底表面。这通常发生在低压气体环境或等离子条件下。