纳米粒子的蒸发技术包括将源材料加热到高温,使其熔化,然后蒸发或升华为蒸汽。蒸发后的原子在表面上凝结成固态,在腔室视线范围内的所有物体上都镀上一层薄薄的源材料。这种技术通常在高真空室中进行,以尽量减少气体碰撞和不必要的反应。
详细说明:
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加热源材料:
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蒸发技术的第一步是加热源材料。这可以通过各种方法实现,如热蒸发、电子束蒸发或感应加热。例如,在电子束蒸发中,使用电子束加热源材料,使其熔化和蒸发。在感应加热中,射频感应加热线圈围绕着装有源材料的坩埚,射频能量加热材料。真空蒸发:
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蒸发过程在高真空环境中进行。这种真空至关重要,因为它允许蒸汽颗粒直接到达目标物体(基底),而不会与其他气体分子发生碰撞。这种直接移动可确保材料更均匀、更可控地沉积到基底上。真空还有助于减少可能影响沉积薄膜质量的不必要反应和滞留气层。
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在基底上沉积:
蒸发后,颗粒流向基底,基底位于真空室内源材料的上方。在这里,颗粒重新凝结成固态,在基底上形成一层薄膜。这层薄膜可以薄至 5 到 250 纳米,具体取决于所需的应用。沉积过程可以改变基底的特性,而不会明显影响其尺寸精度。应用: