物理气相沉积(PVD)是一种复杂的薄膜涂层技术,用于各行各业提高材料的表面性能。
这种方法是将固体材料转化为气态,然后将其沉积到基材上,形成一层均匀的薄层。
与其他涂层方法相比,PVD 更受青睐,因为它能够生产出具有更好机械性能(如硬度和耐磨性)的涂层,而且适用于多种材料。
5 个要点说明:什么是 PVD 方法?
1.PVD 的工艺阶段
蒸发: 在初始阶段,使用高能离子源(通常在真空和氩气等惰性气体中)从目标材料中去除原子。这种高能离子源可将原子从靶材表面蒸发掉。
运输: 气化后的原子通过真空室向基底表面移动。
反应: 如果沉积材料是金属氧化物、碳化物或氮化物,则会发生反应。否则,该工艺仅涉及沉积,不发生化学反应。
沉积: 气化原子在基底表面凝结,形成薄层。
2.PVD 使用的材料
PVD 可以使用各种金属在不同表面形成薄膜和涂层。材料的选择取决于涂层所需的特性,如硬度、耐磨性和化学稳定性。
3.真空环境
PVD 工艺在真空室中进行,以确保气化原子不受阻碍地到达基底。真空还有助于实现均匀、清洁的沉积。
4.蒸发方法
热蒸发: 这种方法包括加热目标材料直至其蒸发。
溅射: 这种方法使用加速等离子体将原子从目标材料上击落,然后沉积到基底上。
5.PVD 的优点
均匀性: PVD 可以在纳米到可见光范围内形成均匀的层。
适用性广: 几乎所有的无机材料和一些有机材料都可以用它来形成层。
改善机械性能: 由于通过异质成核形成紧密的涂层,PVD 涂层通常能提高硬度和耐磨性。
通过了解这些要点,实验室设备采购人员可以在考虑所需特定材料、所需涂层性能以及成功沉积所需的操作条件等因素后,就在其应用中使用 PVD 技术做出明智的决定。
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