知识 溅射镀膜的过程是怎样的?(3 个关键步骤详解)
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更新于 2个月前

溅射镀膜的过程是怎样的?(3 个关键步骤详解)

溅射涂层是一种用于在基底上涂敷薄功能层的方法。这是通过物理气相沉积技术实现的。该工艺涉及高能粒子将原子从目标材料中击出。然后,这些原子沉积到基底上,形成原子级的牢固结合。

3 个关键步骤说明

溅射镀膜的过程是怎样的?(3 个关键步骤详解)

1.环境准备

该过程首先要对一个腔室进行抽空,以去除所有分子。然后,在腔体内充入氩气、氧气或氮气等特定气体。气体的选择取决于要沉积的材料。

2.激活溅射过程

对目标材料施加负电位。腔体作为正阳极。这种设置可在腔体内产生等离子体放电。

3.材料的喷射和沉积

高能粒子撞击目标材料,导致原子喷射。这些原子穿过真空室,以薄膜的形式沉积到基底上。

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