真空炉
2200 ℃ 石墨真空炉
货号 : KT-VG
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 2200 ℃
- 恒定工作温度
- 2100 ℃
- 加热速率
- 0-10 ℃/min
- 有效容积
- 12-150 L
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简介
2200℃ 石墨真空炉是一种采用石墨毡作为隔热材料、石墨电阻棒作为加热元件的高温炉。它的最高工作温度可达 2200℃，是钨合金、碳化硅、钼合金、钛合金、硬质合金和碳材料等各种材料真空反应烧结的理想选择。
该炉具有高真空性能，最高真空度可达 6*10-3Pa，且不会产生高温析气。它还具有出色的真空压力保持性能，真空压力上升率为 0.67Pa/h。
该炉的安全功能包括过流保护和过温报警功能，并具有自动断电功能。它还具有内置热耦合检测功能，一旦发现破损或故障，会自动停止加热并发出警报。
应用
KT-VG 石墨真空炉是一种特殊的高温炉，广泛应用于各行各业，用于在真空或保护气氛环境下对材料进行高温处理。以下是它的一些主要应用领域：
- 钨合金、碳化硅、钼合金、钛合金、硬质合金和碳材料等各种材料的真空反应烧结
- 高温钎焊和焊接
- 金属和合金的退火和热处理
- 陶瓷材料的脱胶和烧结
- 晶体生长
- 真空镀膜和沉积
- 新材料的研发
特点
卧式真空石墨炉是一种高性能炉，是真空和可控气氛烧结应用的理想选择。凭借其先进的特性和功能，该炉可为用户带来众多好处，包括
- 超高工作温度：** 可达到 2200℃，适合各种材料的高温处理。
- 高真空性能：** 最高真空度可达 6*10-3Pa，确保为材料处理提供清洁可控的环境。
- 出色的真空压力保持性能：** 保持稳定的真空环境，压力上升率仅为 0.67Pa/h，防止污染，确保工艺的完整性。
- 真空壳体双层设计：** 采用双层夹套，用于冷水循环快速冷却，有效降低外壳表面温度，提高安全性和操作舒适性。
- 独立的空气输入和输出端口：** 允许在可控气氛下工作，使用户能够根据特定的工艺要求调整炉内环境。
- 可选手动和自动气动真空阀：** 提供了真空控制的灵活性，可满足不同的工作要求和自动化需求。
- PID 可编程微处理器温度控制系统：** 确保精确的温度控制，优化工艺结果，减少产品缺陷。
- 专业加热元件配置：** 优化了热辐射和使用寿命，最大限度地提高了性能，延长了使用寿命。
- 安全联锁系统：** 在炉门打开或温度过高或传感器故障时关闭炉子，确保操作人员安全，防止事故发生。
原理
2200 ℃ 石墨真空炉在绝缘石墨炉腔内使用高温石墨加热元件。这种专门设计可实现精确的温度控制和均匀的加热分布。该炉在真空条件下运行，可在受控气氛下对材料进行高温加工。真空环境最大程度地减少了气体污染、氧化和脱气，确保了处理材料的纯度和完整性。
优势
- 真空和可控气氛烧结的超高工作温度
- 高真空性能，最高真空度可达 6*10-3Pa，且无高温析气现象
- 出色的真空压力保持性能，真空压力上升率为 0.67Pa/h
- 真空壳体采用双层设计，夹套用于冷水循环快速冷却
- 独立的空气输入和输出端口，还提供可控气氛工作功能
- 可选配手动和自动气动真空阀，满足不同的工作要求
- PID 可编程微处理器温度控制系统，确保精确控温
- 专业加热元件配置，优化热辐射性能，确保最长使用寿命
- 安全联锁系统，可在炉门打开、超温或传感器故障时关闭炉子
安全优势
- 过流保护和过温报警功能，自动断电
- 内置热耦合检测功能，检测到破损或故障时自动停止加热并报警
- 断电重启功能，可在断电后恢复供电时恢复炉子加热程序
技术规格
| 炉型 | KT-VG | ||
| 最高温度 | 2200 ℃ | ||
| 恒定工作温度 | 2100 ℃ | ||
| 箱体隔热材料 | 石墨毡 | ||
| 加热元件 | 耐石墨棒 | ||
| 加热速率 | 0-10℃/min | ||
| 温度传感器 | T/R 热电偶和红外温度计 | ||
| 温度控制器 | 带 PLC 的触摸屏 PID 控制器 | ||
| 温度控制精确度 | ±1℃ | ||
| 电源 | 交流 110-440V，50/60 赫兹 | ||
| 标准腔体尺寸 库存 | |||
| 箱体尺寸（毫米） | 有效容积（升） | 箱体尺寸（毫米） | 有效容积（升） |
| 200x200x300 | 12 | 400x400x600 | 96 |
| 300x300x400 | 36 | 500x500x700 | 150 |
| 接受客户设计的尺寸和数量 | |||
可选设置
- 独立炉温监控和记录
- RS 485 通信端口，用于 PC 远程控制和数据输出
- 可选配与温度控制器相连的气动真空阀
- 触摸屏温度控制器，具有多种方便操作的功能
- 用于炉壳夹套冷却系统的冷水循环冷却机
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
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FAQ
真空炉有哪些用途？
什么是石墨化炉？
什么是 CVD 炉？
化学气相沉积（CVD）是一种利用加热、等离子体激发或光辐射等各种能源，使气态或气态化学物质在气相或气固界面上发生化学反应，从而在反应器中形成固态沉积物的技术。简单地说，就是将两种或两种以上的气态原料引入反应室，然后相互反应形成新的材料，并沉积在基片表面。
CVD炉是由高温管式炉单元、气体控制单元和真空单元组成的组合炉系统，广泛应用于复合材料制备、微电子工艺、半导体光电、太阳能利用、光纤通信、超导技术、防护涂层等领域的实验和生产。
什么是管式炉？
实验管式炉是一种经典的外加热高温管式炉，又名热壁加热炉。
根据工作温度的不同，炉管材料通常可采用透明石英管、高纯氧化铝陶瓷管和高强度金属合金管。
为满足不同的热研究目的，管式炉可设计成多加热区，以便灵活控制管工作室内的温度梯度；炉管可在可控气氛工作环境或高真空工作环境中工作。
真空炉的工艺流程是什么？
真空热压炉的用途是什么？
石墨化炉的主要应用有哪些？
真空感应熔炼炉如何工作？
什么是真空电弧熔炼工艺？
CVD 炉是如何工作的？
CVD炉系统由高温管式炉单元、反应气源精确控制单元、真空泵站和相应的组装部件组成。
真空泵用于排除反应管内的空气，确保反应管内没有多余的气体，然后管式炉将反应管加热到目标温度，反应气源精确控制单元可将不同的气体以设定的比例引入炉管内进行化学反应，在CVD炉内形成化学气相沉积。
什么是气氛炉？
管式炉如何工作？
管式炉的加热元件放置在圆柱形腔体周围，炉子只能通过间接热辐射加热圆柱形腔体中的样品，由于炉管可以防止样品材料与炉子加热元件和绝缘材料接触，因此管式炉创造了一个清洁的隔离热室，降低了样品材料被炉子污染的风险。
真空炉中使用什么气体？
真空热压炉有哪些优点？
石墨化炉有哪些不同类型？
真空感应熔炼有哪些优势？
什么是真空电弧重熔 (VAR) 炉？
在 CVD 过程中使用哪种气体？
CVD过程中可以使用的气源非常多，常见的CVD化学反应包括热解、光解、还原、氧化、氧化还原，因此这些化学反应中涉及的气体都可以用于CVD过程。
我们以CVD石墨烯生长为例，CVD过程中使用的气体有CH4、H2、O2和N2。
气氛炉有哪些用途？
管式炉有哪些用途？
管式炉主要应用于冶金、玻璃、热处理、锂电正负极材料、新能源、磨料磨具等行业，是在一定温度条件下测量材料的专业设备。
管式炉具有结构简单、操作方便、易于控制、可连续生产等特点。
管式炉还广泛应用于 CVD（化学气相沉积）和等离子体增强 CVD 系统。
真空炉中使用的加热元件是什么？
真空热压炉如何工作？
石墨化炉是如何工作的？
真空对感应熔炼炉有何帮助？
真空电弧熔炼炉如何工作？
CVD 系统的优势是什么？
- 可根据需要制备金属膜、非金属膜和多组分合金膜等多种薄膜。同时，它还能制备出其他方法难以获得的高质量晶体，如 GaN、BP 等。可同时沉积大量成分均匀的涂层，这是液相外延（LPE）和分子束外延（MBE）等其他制膜方法所无法比拟的。
- 工作条件在常压或低真空条件下进行，因此涂层衍射效果好，形状复杂的工件也能得到均匀的涂层，这一点比 PVD 优越得多。
- 由于反应气体、反应产物和基材之间的相互扩散，可获得附着力良好的涂层，这对于制备耐磨膜和防腐蚀膜等表面强化膜至关重要。
- 有些薄膜的生长温度远低于薄膜材料的熔点。
- 有些薄膜的生长温度远低于薄膜材料的熔点，在低温生长条件下，反应气体和反应器壁及其所含杂质几乎不发生反应，因此可以获得纯度高、结晶度好的薄膜。
- 化学气相沉积可以获得光滑的沉积表面。这是因为与 LPE 相比，化学气相沉积（CVD）是在高饱和度下进行的，成核率高，成核密度大，且在整个平面上分布均匀，因此能获得宏观光滑的表面。
- 低辐射损伤，这是制造金属氧化物半导体（MOS）和其他器件的必要条件
气氛炉如何工作？
有多少种不同类型的管式炉？
管式炉可以在不同的机械功能下顺利工作，因此有许多不同类型的管式炉变化用于不同的实验目的，典型的管式炉如下：
- 卧式管式炉
- 立式管式炉
- 分体式管式炉
- 旋转式管式炉
- 倾斜式管式炉
- 滑动式管式炉
- 快速加热和冷却管式炉
- 连续进料和出料管式炉
真空热压炉的常见应用有哪些？
使用石墨化炉有哪些优势？
什么是真空感应熔炼炉？
真空电弧熔炼炉有哪些应用？
PECVD 代表什么？
等离子体化学气相沉积（PECVD）是利用等离子体激活反应气体，促进基片表面或近表面空间发生化学反应，生成固体薄膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是，在射频或直流电场的作用下，源气体电离形成等离子体，以低温等离子体为能源，引入适量的反应气体，利用等离子体放电激活反应气体，实现化学气相沉积。
根据等离子体的产生方式，可分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体 CVD 等......
PECVD 是什么意思？
使用气氛炉有哪些优势？
使用管式炉有哪些优势？
选择真空热压炉时应考虑哪些因素？
使用真空电弧熔炼炉有哪些优势？
CVD 和 PECVD 的区别是什么？
PECVD与传统CVD技术的区别在于等离子体中含有大量高能电子，可以提供化学气相沉积过程中所需的活化能，从而改变了反应体系的供能方式。由于等离子体中的电子温度高达 10000K，电子与气体分子之间的碰撞可促进反应气体分子的化学键断裂和重组，从而生成更多的活性化学基团，而整个反应体系则保持较低的温度。
因此，与 CVD 工艺相比，PECVD 可以在较低的温度下进行相同的化学气相沉积过程。
选择气氛炉时应考虑哪些因素？
使用管式炉时应采取哪些安全预防措施？
使用真空电弧熔炼炉时应遵守哪些安全预防措施？
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KT-VG Graphite vacuum furnace is a remarkable advanced intelligent heating furnace, with accurate temperature control. It's a great choice for high-temperature treatment of materials.
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The graphite-based furnace offers top-notch thermal efficiency, thanks to its graphite wafer. It's lightweight and provides uniform heating, making it an ideal choice for various applications.
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The electron microscope pictures clearly showcase the transformation of graphite layers before and after heat treatment. This furnace delivers exceptional results for graphitization processes.
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The graphite rod selection is crucial for uniform heating and extended service life. Proper usage and temperature control ensure the longevity of the graphite rod.
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Vacuum sintering furnace offers versatility for processing various materials like hard alloys, carbon composites, and photoelectric coating materials. It's a valuable tool for high-temperature sintering.
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The choice of heating elements, like graphite, molybdenum, or tungsten, enables precise temperature control and efficient heating in vacuum furnaces.
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KT-VG Graphite vacuum furnace excels in vacuum reaction sintering of materials like tungsten alloy, silicon carbide, and molybdenum alloy. Its exceptional temperature control ensures consistent results.
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The temperature sensor with a Tungsten rhenium thermocouple and an infrared thermometer enhances temperature accuracy and reliability, ensuring precise control during the heating process.
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The vacuum shell body's double-layer design with cold water circulation cooling effectively reduces the outer shell temperature, enhancing safety and user comfort.
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The independent air input and output ports allow for a controlled atmosphere working function, expanding the furnace's capabilities and enabling various process conditions.
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The PID programmable microprocessor temperature control system ensures accurate and stable temperature regulation, ensuring precise heating and uniform results.
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The professional heating elements configuration optimizes heat radiation properties, maximizing energy efficiency and extending the service life of the furnace.
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The safety interlock system provides peace of mind, automatically powering off the furnace when the door is open or in cases of over-temperature or sensor failure, ensuring user safety.
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The overcurrent protection and over-temperature alarming function, along with automatic power-off, ensure safe operation and prevent potential hazards, enhancing user confidence.
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The built-in thermal couple detecting function offers an additional layer of safety by automatically stopping heating and triggering an alarm in case of breakage or failure detection, minimizing downtime and ensuring reliable operation.
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The power failure restarting function is a lifesaver! It resumes the heating program upon power restoration, preventing disruptions and ensuring seamless continuation of processes.
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The optional setups, such as independent furnace temperature monitoring and RS 485 communication port, provide enhanced control and data management capabilities, making the furnace even more versatile and user-friendly.
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The cold water circulation cooling machine for the furnace shell jacket cooling system is a great addition, ensuring effective temperature regulation and extending the lifespan of the furnace.
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KT-VG Graphite vacuum furnace is an exceptional choice for high-temperature applications. Its advanced features, safety mechanisms, and optional setups make it a reliable and versatile tool in any laboratory.
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