物理气相沉积（PVD）是一种为金属镀上一层另一种材料薄膜的工艺。
这种技术涉及材料在原子层面上的转移。
材料从凝结相移动到气相，然后再回到凝结相，在基底上形成一层薄膜。
PVD 涂层通常比涂层材料更坚硬、更耐用。
这就提高了底层金属的性能。
了解物理气相沉积的 5 个关键步骤
1.涂层材料的蒸发
这包括涂层材料的蒸发、分离或溅射。
材料被加热直至汽化，从固体变成气体。
2.原子、分子或离子的迁移
气化后，原子、分子或离子穿过低压区域，从其来源迁移到基底。
这一步包括粒子碰撞后发生的任何反应。
3.在基底上沉积
气化的材料在基底表面凝结，形成薄膜。
沉积过程在高温下进行，而基底则保持在较低的温度下，以防止损坏。
4.PVD 的特点
PVD 的特点是能够制造出其他方法难以实现的涂层。
这些涂层包括具有高硬度和耐磨性的陶瓷涂层或复合涂层。
5.PVD 的优点
PVD 是一种在真空条件下运行的低电压、大电流电弧放电技术。
这最大限度地减少了环境污染。
该技术尤其适用于工具和模具应用。
它可以将零件的寿命延长一倍，降低成本，同时提高盈利能力。
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