PVD 或物理气相沉积是一种用于在金属上镀上另一种材料薄膜的工艺。这种技术涉及材料在原子层面上的转移，从凝结相转移到气相，然后以薄膜的形式在基底上返回凝结相。PVD 涂层通常比涂层材料更坚硬、更耐用，从而提高了底层金属的性能。
PVD 过程可分为三个主要步骤：
- 涂层材料蒸发:这包括涂层材料的蒸发、分离或溅射。材料被加热直至汽化，从固体变成气体。
- 原子、分子或离子迁移:气化后，原子、分子或离子穿过低压区域，从其来源迁移到基底。这一步骤包括粒子碰撞后发生的任何反应。
- 在基底上沉积:气化的材料在基底表面凝结，形成薄膜。这种沉积在高温下进行，而基底则保持在较低的温度下，以防止损坏。
PVD 的特点是能够形成其他方法难以实现的涂层，如具有高硬度和耐磨性的陶瓷或复合涂层。它是一种在真空条件下运行的低电压、大电流电弧放电技术，可最大限度地减少环境污染。该技术尤其适用于工具和模具应用，可使零件寿命延长一倍，在降低成本的同时提高盈利能力。
总之，PVD 是一种多功能、有效的薄膜沉积方法，可增强各种材料的表面性能，提高耐久性、硬度和性能。
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