溅射工艺常用的射频频率通常在 5-30 MHz 之间。
13.56 MHz 是最常用的频率。
该频率由国际电信联盟（ITU）《无线电规则》为工业、科学和医疗（ISM）仪器制定了标准。
该标准化有助于避免干扰电信服务。
有关溅射中射频频率的 4 个要点
1.13.56 MHz 的战略选择
选择 13.56 MHz 具有战略意义。
它的频率足够低，可以让氩离子有足够的时间向目标进行动量传递。
这对有效溅射至关重要。
频率越高，离子的作用就越小。
这一过程变得更加以电子为主，类似于电子束蒸发。
2.绝缘材料的优势
在射频溅射中使用 13.56 MHz 对于沉积绝缘材料尤其有利。
与适用于导电材料的直流溅射不同，射频溅射使用射频电源。
这些电源可以处理具有绝缘特性的材料。
射频溅射可在较低压力（低于 15 mTorr）下维持惰性气体等离子体。
直流溅射需要较高的压力（约 100 mTorr）。
这种低压环境可减少目标材料颗粒与气体离子之间的碰撞。
这有利于在基底上形成更直接的沉积途径。
3.射频溅射的机理
射频溅射的机理包括以无线电频率交变电势。
这可以防止目标表面的电荷堆积。
射频电流的每个循环都能有效清洁靶材表面。
它能逆转在单向持续电流下积累的电荷。
这种清洁效果对于保持溅射过程的效率至关重要。
特别是对于绝缘靶，电荷积累会阻碍沉积过程。
4.射频频率优势总结
总之，13.56 MHz 射频频率广泛用于溅射。
这是因为它符合 ISM 标准。
它能有效处理绝缘材料。
它在较低的压力下工作，提高了沉积过程的直接性和效率。
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