物理气相沉积（PVD）通常在相对较低的温度下沉积。
温度范围约为 250°C 至 450°C。
在某些情况下，温度可低至 250°C 以下。
这一温度范围大大低于化学气相沉积（CVD）的温度范围。
CVD 的工作温度在 450°C 至 1050°C 之间。
有关 PVD 温度沉积的 4 个重要见解
1.PVD 的温度范围
PVD 的沉积过程一般在 250°C 至 450°C 之间进行。
规定这一温度范围是为了确保基底材料的核心微观结构和机械性能保持不变。
这对于钢等材料尤为重要。
PVD 使用的较低温度是一大优势，尤其是在处理热敏材料时。
2.低温的优势
在如此低的温度下工作，使 PVD 能够用于更广泛的基材，而不会导致材料变形或性能改变。
例如，对高温敏感的高速钢（HSS）立铣刀可以使用 PVD 进行涂层，而不会有失去直线度或同心度的风险。
这是因为 PVD 过程不会产生明显的热应力或变形。
3.特定应用和材料
PVD 涂层适用于能承受约 427°C （800°F）高温的金属。
常见的涂层材料包括不锈钢、钛合金和一些工具钢。
不过，铝的熔点较低，接近 PVD 过程中使用的温度，因此通常不使用 PVD 涂层。
4.工艺细节
PVD 工艺在真空室中进行，温度可低至 50°C，高至 600°C。
这取决于涂层和涂层材料的具体要求。
该技术的 "视线 "特性要求在真空室中对物体进行仔细定位，以确保涂层的完整和均匀。
总之，PVD 因其能够在低温下沉积涂层而备受青睐。
这可以保持基底材料的完整性，并扩大可有效镀膜的应用和材料范围。
这使得 PVD 在各种工业应用中，尤其是在精度和材料完整性至关重要的应用中，成为一种用途广泛且极具价值的技术。
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