薄膜可通过各种方法生成，主要分为化学沉积技术和物理沉积技术。主要方法包括化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、旋镀和电镀。每种方法在薄膜纯度、成分和厚度控制方面都具有特定的优势。
化学气相沉积 (CVD)：
化学气相沉积法是将基底暴露于挥发性前驱体中，前驱体在基底上发生反应并沉积形成薄膜。这种技术特别适用于制造高纯度、高效的固体薄膜。CVD 可以生成单晶、多晶或无定形薄膜，具体取决于温度、压力和气体流速等工艺参数。由于可以调整这些参数，因此可以在低温下合成简单和复杂的材料，从而使其在各种应用领域，尤其是半导体行业，具有广泛的用途。物理气相沉积（PVD）：
物理气相沉积是将蒸发材料从源凝结到基底上。这种方法包括蒸发和溅射等子技术。在蒸发过程中，材料被加热到气化点，然后凝结在基底上。溅射则是通过离子轰击将材料从目标喷射出来，然后沉积到基底上。PVD 因其能够生成高度附着、均匀的薄膜而闻名，这对于要求耐用性和精度的应用来说至关重要。
旋转涂层：
旋转涂层是一种主要用于在平面基底上沉积聚合物和其他材料的均匀薄膜的技术。在此过程中，将待沉积材料的溶液涂抹在基底上，然后快速旋转基底，使溶液均匀地涂抹在基底表面。溶剂蒸发后，会留下一层薄膜。这种方法特别适用于制作厚度可控的均匀薄膜，这对电子和光学领域的应用至关重要。
电镀：
