用于沉积氧化锌薄膜的溅射系统类型可能是磁控溅射和反应溅射.这种方法使用固体靶材料(通常是锌)与反应性气体(如氧气)结合,形成氧化锌(ZnO)沉积膜。
磁控溅射 之所以选择这种方法,是因为它能够生产出高纯度、稳定和均匀的薄膜。这是一种物理沉积方法,目标材料(锌)在离子轰击下升华,使材料直接从固态蒸发而不熔化。这种方法可确保与基底的良好附着力,并可处理多种材料。
反应溅射 通过在溅射室中引入反应气体(氧气)来实现。这种气体会与目标表面或基底上的溅射锌原子发生反应,形成氧化锌。使用反应溅射可以沉积氧化锌等化合物材料,而仅使用元素靶则无法实现这种沉积。
这种沉积工艺的系统配置可能包括基底预热站、用于原位清洁的溅射蚀刻或离子源能力、基底偏压能力以及可能的多阴极等选项。这些功能可提高沉积氧化锌薄膜的质量和均匀性,确保其符合各种应用所需的规格。
尽管具有这些优势,但仍需要应对诸如化学计量控制和反应溅射产生的不良后果等挑战。由于涉及的参数较多,工艺复杂,需要专家进行控制,以优化氧化锌薄膜的生长和微观结构。
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