薄膜沉积部件
电子束蒸发用高纯石墨坩埚
货号 : KMS02
价格根据 规格和定制情况变动
- 材料
- 石墨
- 规格
- Ф35-65*17-30mm
- 盖板
- 选配
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应用
电子束蒸发石墨坩埚是一种利用电子束制造柔性、粗糙石墨薄膜的技术。其关键参数包括碳源供应、电子束辐照能量、施加电压、蒸发温度和蒸发时间。施加的电压调节石墨层与坩埚底层的附着力。为确保石墨层平整，应控制碳源进料的流速和粒径，以实现均匀沉积和蒸发。
在电力电子领域，电子束蒸发石墨坩埚技术得到了广泛应用。它涉及利用电子束沉积碳源材料，形成石墨薄膜。通过此工艺制造的石墨坩埚具有低电阻、低电晕和高屈服强度。它广泛应用于电子设备的散热、耐压制造和测试。
细节与部件
技术规格
| 石墨坩埚尺寸 | 35*17毫米 | 35*22毫米 | 40*20毫米 | 42.5*19.5毫米 | 45*22.5毫米 | 50*25毫米 | 65*30毫米 |
我们展示的坩埚有不同尺寸可供选择，也可根据要求定制尺寸。
优势
- 制备精度：电子束蒸发技术可精确控制沉积过程，从而获得高精度、一致性的石墨坩埚。
- 抗热震性：电子束蒸发形成的石墨薄膜具有优异的抗热震性，适用于温度快速变化的场合。
- 耐磨性：电子束蒸发的石墨坩埚具有良好的耐磨性，使其经久耐用，能够承受严苛条件。
- 耐化学腐蚀性：这些坩埚能抵抗酸、碱和化学污染，确保在腐蚀性化学环境中的可靠性和长寿命。
- 柔韧性和粗糙度：通过该技术形成的石墨薄膜具有一定的柔韧性和粗糙度，可有效应用于各种场合。
总之，电子束蒸发的石墨坩埚具有制备精度高、抗热震性好、耐磨、耐化学腐蚀、柔韧性和粗糙度等优点。它们广泛应用于电力电子、分子键合测试、激光技术、电池、高压电容器和医疗设备等领域。
FAQ
什么是热蒸发源？
电子束蒸发石墨坩埚技术与传统技术的比较。
高纯度石墨坩埚是如何制造的？
热蒸发源的主要类型有哪些？
高纯石墨坩埚的常见应用有哪些？
热蒸发源是如何工作的？
蒸发坩埚常用的材料有哪些？
选择高纯度石墨坩埚时应考虑哪些因素？
使用热蒸发源有哪些优势？
使用蒸发坩埚有哪些优势？
热蒸发源有哪些应用？
应如何处理和维护蒸发坩埚？
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