物理气相沉积（PVD）是一种用于将材料薄膜沉积到基底上的工艺，通过材料从凝结相到气相的转变，然后再回到固相。该工艺通常在高温真空条件下进行，以确保沉积材料的纯度和质量。
工艺概述：
- 材料转化为气相： PVD 的第一步是将固态前驱体材料转化为蒸汽。这通常是通过高功率电力（如溅射）或激光蒸发来实现的。
- 蒸汽运输： 气化后的材料将在低压区域内从源头传输到基底。这一步骤可确保蒸气到达基底时不会造成严重污染或材料损失。
- 在基底上凝结： 蒸汽在基底上凝结，形成一层薄膜。薄膜附着在基底上，形成具有特定物理特性的涂层。
详细说明：
- 材料转化为蒸汽： 在溅射法中，使用高能气体等离子体（通常为氩气）将原子从目标材料上击落。在蒸发过程中，使用电阻加热或电子束加热等方法将材料加热至蒸发点。
- 蒸汽传输： 沉积室中的真空环境有利于气化材料在不受空气分子干扰的情况下移动到基底上。这确保了蒸气的清洁和直接路径，提高了沉积薄膜的均匀性和质量。
- 基底上的冷凝： 当气化材料到达基底时，会冷却并凝结，形成一层固体薄膜。薄膜的厚度和特性取决于前驱体材料的蒸气压和基底温度等因素。
PVD 能够生产硬度极高、耐腐蚀、耐高温的涂层，因此被广泛应用于各行各业。此外，由于 PVD 不使用危险化学品，也不会产生有害的副产品，因此被认为是一种环保技术。
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