等离子体活化化学气相沉积（PACVD）是化学气相沉积（CVD）大类别中的一项专门技术。
它利用等离子体提高气体的化学反应活性，从而在较低温度下沉积薄膜。
这种方法通过辉光放电使基底表面附近的气体电离，从而激活反应气体，促进热化学和等离子体化学反应。
4 个要点说明
1.气体活化
在 PACVD 系统中，反应气体以 1 到 600 Pa 的压力被引入一个腔室。
基底通常放置在阴极上，并保持在特定温度下。
启动辉光放电，使基底表面附近的气体电离，从而提高其化学反应活性。
2.化学反应
活化气体既会发生典型的 CVD 过程中的热化学反应，也会发生 PACVD 所特有的等离子化学反应。
等离子体的高能量（包括离子、自由电子和自由基）促进了这些反应。
这种双重机制可沉积出具有可控特性（如密度和附着力）的薄膜。
3.优势
与传统的 CVD 相比，PACVD 具有多项优势，包括沉积温度更低、对基底特性的影响最小，以及能够形成致密、无针孔的薄膜。
它用途广泛，能够沉积各种类型的薄膜，包括金属、无机和有机薄膜。
4.应用
PACVD 能够在较低的温度下沉积薄膜，并能精确控制薄膜的特性，因此适用于广泛的应用领域。
这些应用范围从半导体制造到医疗设备和工具的涂层。
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