等离子体活化化学气相沉积（PACVD）是化学气相沉积（CVD）大类别中的一种技术，它利用等离子体提高气体的化学反应活性，使薄膜能在较低温度下沉积。这种方法是通过辉光放电使基底表面附近的气体电离，从而激活反应气体，促进热化学和等离子体化学反应。
工艺概述：
PACVD 的工作原理是将反应气体引入放置基底的低压室。气体通过辉光放电电离，辉光放电通常由射频、直流高压、脉冲或微波激发。这种电离激活了气体，使化学反应在比传统 CVD 方法更低的温度下发生。在热化学反应和等离子化学反应的共同作用下，在基底上形成薄膜。
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详细说明：气体活化：
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在 PACVD 系统中，反应气体以 1 到 600 Pa 的压力进入一个腔室。基底通常放置在阴极上，并保持在特定温度下。启动辉光放电，使基底表面附近的气体电离，提高其化学反应活性。化学反应：
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活化气体会发生热化学反应（典型的 CVD 工艺）和 PACVD 特有的等离子化学反应。等离子体的高能量（包括离子、自由电子和自由基）促进了这些反应。这种双重机制可沉积出具有可控特性（如密度和附着力）的薄膜。优势：
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与传统的 CVD 相比，PACVD 具有多项优势，包括沉积温度更低、对基底特性的影响最小，以及能够形成致密、无针孔的薄膜。它用途广泛，能够沉积各种类型的薄膜，包括金属、无机和有机薄膜。应用：
PACVD 能够在较低温度下沉积薄膜，并能精确控制薄膜特性，因此适用于从半导体制造到医疗设备和工具涂层等广泛领域。更正和审查：
